[发明专利]一种细胞培养装置及制备方法

权利要求书

1.一种细胞培养装置，其特征在于，包括细胞培养皿或细胞培养板，和具有三维微纳米结构的基底，所述的基底与细胞培养皿或细胞培养板键合；所述的基底由安全无毒，具有可塑性和化学惰性的高分子材料制成。

2.根据权利要求1所述的细胞培养装置，其特征在于，所述的基底的三维微纳米结构由软光刻技术制备获得，基底的三维微纳米结构界面取决于模板上的三维微纳米结构形貌。

3.根据权利要求2所述的细胞培养装置，其特征在于，所述模板包括但不限于阳极氧化铝模板、硅基模板、金属模板中的一种。

4.根据权利要求1所述的细胞培养装置，其特征在于，基底的无毒性体现在：基底浸提液对细胞增殖活性无影响；基底的化学惰性体现在：不会释放活性化学成分干扰细胞与微纳米结构作用的研究，可用于紫外辐照、乙醇浸泡、高温高压的消毒方式消毒，且消毒过程基底的物理化学性质不会发生变化。

5.根据权利要求4所述的细胞培养装置，其特征在于，所述安全无毒，具有可塑性和化学惰性的高分子材料包括但不限于聚二甲基硅氧烷。

6.根据权利要求1所述的细胞培养装置，其特征在于，所述基底的机械强度可通过调整制备条件控制。

7.根据权利要求1所述的细胞培养装置，其特征在于，所述基底与细胞培养皿或细胞培养板为可拆卸式键合。

8.一种权利要求1-7任意一项所述的细胞培养装置的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、制备具有三维微纳米结构的基底

选择具有三维微纳米结构的模板，配制基底所用的高分子材料预聚液，在配制好的高分子材料预聚液中加入溶剂进行稀释，在真空条件下，将稀释过的高分子材料预聚液倒入模板，保持真空30min，用旋涂仪进行旋涂，得到均一高度薄层，加热固化处理；在固化的材料表面倒上一层没有稀释的高分子材料预聚液，用旋涂仪进行旋涂，并进行抽真空处理，加热0.8-1.2h固化后，继续加热3-4h去除溶剂；将模板进行脱模处理，获得具有三维微纳米结构的基底；

S2、组装具有三维微纳米结构的基底的细胞培养装置

根据不同的细胞培养实验需要选择不同类型的细胞培养皿或细胞培养板，然后根据所选细胞培养皿或细胞培养板的孔径选择对应的圆冲对S1中获得的基底进行打孔，获得大小均一的基底，对基底进行灭菌处理；将干燥无菌的基底在无菌环境下与细胞培养板或细胞培养皿键合，获得具有特定微纳米结构基底的细胞培养装置。

9.根据权利要求1所述的细胞培养装置的制备方法，其特征在于，所述的高分子材料预聚液为聚二甲基硅氧烷预聚液；所述的溶剂为正己烷。

10.根据权利要求9所述的细胞培养装置的制备方法，其特征在于，稀释操作时，聚二甲基硅氧烷预聚液与正己烷的体积为1：(0.8-1.2)。

11.根据权利要求9所述的细胞培养装置的制备方法，其特征在于，所述的聚二甲基硅氧烷预聚液聚包括二甲基硅氧烷前驱体和固化剂，二甲基硅氧烷前驱体和固化剂的重量比为(1-80)：1；所述加热固化的温度为70-200℃，加热去除溶剂的温度为大于68℃，小于使用的固化温度。

12.根据权利要求9所述的细胞培养装置的制备方法，其特征在于，S1中选择具有三维微纳米结构的模板后，加入高分子材料预聚液前需预先对模板进行氟化处理。