[发明专利]一种用于消除电荷累积效应测量空间电场的方法及系统在审
申请号: | 202010468891.9 | 申请日: | 2020-05-28 |
公开(公告)号: | CN112034268A | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | 干喆渊;张建功;张业茂;刘首文;刘皓;郑树海;王延召;赵军;谢辉春;陈豫朝;路遥;周兵;倪园;李妮;胡静竹;刘兴发;刘震寰 | 申请(专利权)人: | 中国电力科学研究院有限公司;国网湖北省电力有限公司;国家电网有限公司 |
主分类号: | G01R29/12 | 分类号: | G01R29/12 |
代理公司: | 北京工信联合知识产权代理有限公司 11266 | 代理人: | 姜丽楼 |
地址: | 100192 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 消除 电荷 累积 效应 测量 空间 电场 方法 系统 | ||
1.一种用于消除电荷累积效应测量空间电场的方法,所述方法包括:
确定目标空间电场、空间电荷及离子流累积到空间电场测量装置腔体上盖产生的电场和空间电荷及离子流产生的电场的合成电场关系;
所述空间电场测量装置置于目标空间;
采集两块敏感芯片测量的空间电荷及离子流累积到空间电场测量装置腔体上盖产生的电场,并确定两块敏感芯片测量的空间电荷及离子流累积到空间电场测量装置腔体上盖产生的电场的比例关系;
所述两块敏感芯片交错布置于空间电场测量装置内部;
采集两块敏感芯片测量的合成电场;
根据合成电场关系、两块敏感芯片测量的空间电荷及离子流累积到空间电场测量装置腔体上盖产生的电场、比例关系和合成电场,确定目标空间的空间电场。
2.根据权利要求1所述的方法,所述合成电场关系如下:
Ein=E0+E1+E2
Ein为合成电场、E0为目标空间电场、E1为空间电荷及离子流累积到空间电场测量装置腔体上盖产生的电场和E2为空间电荷及离子流产生的电场。
3.根据权利要求1所述的方法,所述比例关系如下:
E21=λE11
E21和E11为两块敏感芯片测量的空间电荷及离子流累积到空间电场测量装置腔体上盖产生的电场,λ为E21和E11比值。
4.一种用于消除电荷累积效应测量空间电场的系统,所述系统包括:
预处理模块,用于确定目标空间电场、空间电荷及离子流累积到空间电场测量装置腔体上盖产生的电场和空间电荷及离子流产生的电场的合成电场关系;
所述空间电场测量装置置于目标空间;
第一采集模块,用于采集两块敏感芯片测量的空间电荷及离子流累积到空间电场测量装置腔体上盖产生的电场,并确定两块敏感芯片测量的空间电荷及离子流累积到空间电场测量装置腔体上盖产生的电场的比例关系;
所述两块敏感芯片交错布置于空间电场测量装置内部;
第二采集模块,用于采集两块敏感芯片测量的合成电场;
测量模块,用于根据合成电场关系、两块敏感芯片测量的空间电荷及离子流累积到空间电场测量装置腔体上盖产生的电场、比例关系和合成电场,确定目标空间的空间电场。
5.根据权利要求4所述的系统,所述合成电场关系如下:
Ein=E0+E1+E2
Ein为合成电场、E0为目标空间电场、E1为空间电荷及离子流累积到空间电场测量装置腔体上盖产生的电场和E2为空间电荷及离子流产生的电场。
6.根据权利要求1所述的系统,所述比例关系如下:
E21=λE11
E21和E11为两块敏感芯片测量的空间电荷及离子流累积到空间电场测量装置腔体上盖产生的电场,λ为E21和E11比值。
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