[发明专利]介质排出装置、介质处理装置以及记录系统有效
申请号: | 202010470270.4 | 申请日: | 2020-05-28 |
公开(公告)号: | CN112010083B | 公开(公告)日: | 2022-07-15 |
发明(设计)人: | 中幡彰伸;古御堂刚;宫泽正树;内堀宪治 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B65H29/46 | 分类号: | B65H29/46;B65H29/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 沈丹阳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 介质 排出 装置 处理 以及 记录 系统 | ||
1.一种介质排出装置,其特征在于,具备:
第一托盘,具有接收介质的第一介质接收面;
第二托盘,具有接收从所述第一托盘排出的所述介质的第二介质接收面;
排出构件,将配置于所述第一托盘的所述介质向所述第二托盘排出;以及
下压部,在所述介质排出方向上位于比所述第一介质接收面的下游端更下游的位置,并且在宽度方向上位于远离所述排出构件的位置,所述宽度方向是与所述介质排出方向交叉的方向,所述下压部将被排出的所述介质中的在所述介质排出方向的上游端的所述宽度方向上的一部分向比所述第一介质接收面的在所述介质排出方向的下游端更靠下处下压,
所述排出构件具有支承部,所述支承部用于支承所述介质,并且能够在退避位置和前进位置之间位移,所述退避位置位于所述第一托盘内,所述前进位置比所述退避位置在从所述第一托盘到所述第二托盘的介质排出方向上更进一步前进而位于所述第二托盘上,
所述下压部将由位于所述前进位置的所述支承部所支承的所述介质下压。
2.根据权利要求1所述的介质排出装置,其特征在于,
所述下压部能够位移至下降位置和上升位置,所述下降位置是将所述介质中的在所述介质排出方向的上游端的所述宽度方向上的一部分向比所述第一介质接收面的在所述介质排出方向的下游端更靠下处下压的位置,所述上升位置是比所述下降位置更靠上方、且从由位于所述前进位置的所述支承部所支承的所述介质分开的位置,
所述上升位置是比所述第一介质接收面的在所述介质排出方向的下游端的高度位置更靠上方的位置。
3.根据权利要求2所述的介质排出装置,其特征在于,
在所述宽度方向上的所述支承部的两侧具备所述下压部。
4.根据权利要求2或3所述的介质排出装置,其特征在于,
所述下压部在所述支承部从所述退避位置位移到所述前进位置后从所述上升位置向所述下降位置位移,所述下压部在所述支承部从所述前进位置位移到所述退避位置后从所述下降位置向所述上升位置位移。
5.根据权利要求2所述的介质排出装置,其特征在于,
所述介质排出装置具备保持部件,所述保持部件保持所述下压部并且能够沿所述上升位置和所述下降位置之间的位移方向位移,
所述下压部被设置为能够相对于所述保持部件沿所述上升位置和所述下降位置之间的位移方向位移,并且被按压部件在朝向所述下降位置的方向上按压。
6.根据权利要求2所述的介质排出装置,其特征在于,所述介质排出装置具备:
保持部件,保持所述下压部并且能够沿所述上升位置和所述下降位置之间的位移方向位移;以及
驱动构件,使所述保持部件沿所述位移方向位移。
7.根据权利要求2所述的介质排出装置,其特征在于,
所述下压部能够位移到第一限制位置,所述第一限制位置限制载置于所述第一托盘的所述介质的浮起,
每当所述介质被排出到所述第一托盘,所述下压部从所述上升位置位移到所述第一限制位置。
8.根据权利要求7所述的介质排出装置,其特征在于,
所述第一限制位置是比所述下降位置的更上方、且将所述第一介质接收面在所述介质排出方向上延长而得的延长线更上方的位置。
9.根据权利要求2所述的介质排出装置,其特征在于,
所述介质排出装置具备限制部件,所述限制部件能够成为第一状态和第二状态,所述第一状态能够与载置于所述第二托盘的所述第二介质接收面的所述介质的、所述介质排出方向的上游区域相对从而限制所述上游区域的浮起,所述第二状态为从与载置于所述第二托盘的所述第二介质接收面的所述介质相对的位置分开。
10.根据权利要求2所述的介质排出装置,其特征在于,
所述下压部的所述上升位置被设定为对所述第一托盘中的所述介质的最大装载高度加上预定余量后而得的值。
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