[发明专利]光刻润湿液及其应用

权利要求书

1.光刻润湿液，其特征在于，其含有水、有机碱和活性剂；

所述有机碱为胍类有机碱或哌嗪类有机碱；

所述活性剂为EO/PO嵌段共聚物与水溶性聚合物的组合物。

2.根据权利要求1所述的光刻润湿液，其特征在于，所述胍类有机碱选自单胍及其衍生物，化学结构式如下：

其中，R1、R2、R3各自独立地为H、烃基或杂环取代基；

或者，所述胍类有机碱选自双胍及其衍生物，化学结构式如下：

其中，Ra、Rb、Rc、Rd各自独立地为H、烃基、芳香基团或杂环取代基。

3.根据权利要求1所述的光刻润湿液，其特征在于，所述哌嗪类有机碱选自哌嗪及其衍生物，化学结构式如下：

其中，Rs1、Rs2各自独立地为H、甲基、乙基、氨基、羟甲基或羟乙基。

4.根据权利要求1所述的光刻润湿液，其特征在于，所述EO/PO嵌段共聚物的通式如下：

RO-[-(EO)m(PO)n-]-H

其中，R为碳原子数5-20的烃链，m为EO的重复单元数，n为PO的重复单元数，m与n的和小于20；

所述水溶性聚合物为聚乙二醇；所述聚乙二醇的分子量为200-600。

5.根据权利要求1所述的光刻润湿液，其特征在于，所述有机碱的质量百分含量为0.05%-1%，EO/PO嵌段共聚物的质量百分含量为0.001-1%，水溶性聚合物的质量百分含量为0.001%-1%。

6.根据权利要求1所述的光刻润湿液，其特征在于，还含有高沸点有机溶剂；所述高沸点有机溶剂选自丙二醇、乙二醇、丙二醇、丙三醇。

7.根据权利要求6所述的光刻润湿液，其特征在于，所述高沸点有机溶剂的质量百分含量为0.5%-5%。

8.根据权利要求1所述的光刻润湿液，其特征在于，还含有防霉杀菌剂；所述防霉杀菌剂为季铵盐型杀菌剂。

9.根据权利要求8所述的光刻润湿液，其特征在于，所述防霉杀菌剂的质量百分含量为0.001%-0.005%。

10.半导体光刻工艺，其特征在于，在光阻显影后，采用权利要求1至9中任一项所述的光刻润湿液来旋洗光阻表面，去除结构中的杂质，形成清晰完整的光阻图案。