[发明专利]太赫兹安检成像装置有效
申请号: | 202010474580.3 | 申请日: | 2020-05-29 |
公开(公告)号: | CN111781650B | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
发明(设计)人: | 张建新;张殿坤;杨诚;邓朝 | 申请(专利权)人: | 欧必翼太赫兹科技(北京)有限公司 |
主分类号: | G01V3/12 | 分类号: | G01V3/12 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 陈文香;刘芳 |
地址: | 101111 北京市大兴区经济*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 赫兹 安检 成像 装置 | ||
1.一种太赫兹安检成像装置,其特征在于,包括:第一平面扫描镜(1)、第二平面扫描镜(2)、凹面扫描镜(3)和太赫兹阵列探测器(4),其中,
初始时,所述第一平面扫描镜(1)和所述第二平面扫描镜(2)平行设置,且所述第一平面扫描镜(1)和所述第二平面扫描镜(2)相对于水平面呈第一预设角度γ;
所述第二平面扫描镜(2)的法线和所述第二平面扫描镜(2)的旋转轴形成第二预设角度β;
所述凹面扫描镜(3)的法线和所述凹面扫描镜(3)的旋转轴形成第三预设角度α,所述凹面扫描镜(3)的法线平行于所述水平面,所述凹面扫描镜(3)的旋转轴与所述第二平面扫描镜(2)的旋转轴形成第四预设角度δ;
所述太赫兹阵列探测器(4)位于所述第一平面扫描镜(1)的法线和所述第二平面扫描镜(2)的法线形成的平面上;
所述第一平面扫描镜(1)绕所述第一平面扫描镜(1)的法线摆动、所述第二平面扫描镜(2)和所述凹面扫描镜(3)以相反方向相同速度旋转时,来自检测对象的太赫兹波被所述第一平面扫描镜(1)反射到所述第二平面扫描镜(2)上,经所述第二平面扫描镜(2)反射至所述凹面扫描镜(3),再经所述凹面扫描镜(3)反射至所述第二平面扫描镜(2),再经所述第二平面扫描镜(2)反射至所述太赫兹阵列探测器(4),使得所述太赫兹阵列探测器根据所述太赫兹波得到所述检测对象的太赫兹图像。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述凹面扫描镜(3)的曲率半径R、所述第二平面扫描镜(2)的几何中心和所述凹面扫描镜(3)的几何中心的距离x、所述第二预设角度β、所述第三预设角度α满足如下关系:
α=2(1-xR)β。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第二平面扫描镜(2)和所述凹面扫描镜(3)以相反方向相同速度旋转时,所述太赫兹阵列探测器(4)对所述检测对象所处空间进行水平方向扫描,扫描角度θ、所述第三预设角度α和所述第四预设角度δ满足如下关系:
θ=8αcosδ。
4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述太赫兹阵列探测器(4)位于所述凹面扫描镜(3)的像平面,所述检测对象位于所述凹面扫描镜(3)的物平面。
5.根据权利要求1~4任一项所述的装置,其特征在于,所述太赫兹阵列探测器(4)包含N个通道,所述N大于等于2且为整数,所述N个通道中相邻两个通道之间的距离大于0。
6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述N个通道在所述凹面扫描镜(3)的物平面上竖直扫描范围0-H内等间距设置。
7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述第一平面扫描镜(1)的扫描范围为0-H/(N-1)。
8.根据权利要求1-4任一项所述的装置,其特征在于,所述第一平面扫描镜(1)、所述第二平面扫描镜(2)和所述凹面扫描镜(3)工作于反射模式。
9.根据权利要求1-4任一项所述的装置,其特征在于,还包括:太赫兹辐射源(5),用于通过0.1THz-10THz的太赫兹波照射所述检测对象。
10.根据权利要求1~4任一项所述的装置,其特征在于,所述第一平面扫描镜(1)、第二所述平面扫描镜(2)和所述凹面扫描镜(3)采用碳纤维复合材料制成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欧必翼太赫兹科技(北京)有限公司,未经欧必翼太赫兹科技(北京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010474580.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。