[发明专利]产生遮罩的方法及执行此方法的投影装置在审

专利信息
申请号: 202010475157.5 申请日: 2020-05-29
公开(公告)号: CN113747130A 公开(公告)日: 2021-12-03
发明(设计)人: 林奇葳;彭健钧;涂勋城 申请(专利权)人: 中强光电股份有限公司
主分类号: H04N9/31 分类号: H04N9/31
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘佳斐
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 产生 方法 执行 投影 装置
【权利要求书】:

1.一种产生遮罩的方法,用于投影装置,其特征在于,所述产生遮罩的方法包括:

投射第一图样至投影面,其中所述投影面包括非平面区域,且所述第一图样包括多个第一直线;

对呈现有所述第一图样的所述投影面拍摄第一影像;

在所述第一影像中找出至少第一特定线段,其中各所述第一特定线段包括至少一第一转折点;

当判定所述第一影像中的所述至少一第一转折点适合用于描绘第一轮廓,则依据所述至少一第一转折点描绘所述第一轮廓;以及

当判定所述第一轮廓匹配于所述非平面区域的区域轮廓,则基于所述第一轮廓产生第一遮罩图样,其中所述第一遮罩图样用以遮蔽所述第一轮廓的外部区域。

2.根据权利要求1所述的产生遮罩的方法,其特征在于,当判定所述第一影像中的所述至少一第一转折点不适合用于描绘所述第一轮廓,或者,当判定所述第一轮廓未匹配于所述非平面区域的所述区域轮廓,则所述产生遮罩的方法还包括:

投射第二图样至所述投影面,其中所述第二图样包括多个第二直线,其中所述多个第二直线的其中之一不平行于所述多个第一直线的其中之一;

对呈现有所述第二图样的所述投影面拍摄第二影像;

在所述第二影像中找出至少一第二特定线段,其中各所述第二特定线段包括至少一第二转折点;

当判定所述第一影像中的所述至少一第一转折点及所述第二影像中的所述至少一第二转折点适合用于描绘一第二轮廓,则依据所述第一影像中的所述至少一第一转折点及所述第二影像中所述至少一第二转折点描绘所述第二轮廓;以及

当判定所述第二轮廓匹配于所述非平面区域的所述区域轮廓,基于所述第二轮廓产生第二遮罩图样,其中所述第二遮罩图样用以遮蔽所述第二轮廓的外部区域。

3.根据权利要求2所述的产生遮罩的方法,其特征在于,所述多个第一直线之间存在第一间距,所述多个第二直线之间存在第二间距,且当判定所述第二轮廓未匹配于所述非平面区域的所述区域轮廓,则所述产生遮罩的方法还包括:

投射第三图样至所述投影面,其中所述第三图样包括多个第三直线,其中各所述第三直线平行于各所述第一直线,且所述多个第一直线之间的所述第一间距大于所述多个第三直线之间的第三间距;

对呈现有所述第三图样的所述投影面拍摄第三影像;

在所述第三影像中找出至少一第三特定线段,其中各所述第三特定线段包括至少一第三转折点;

投射一第四图样至所述投影面,其中所述第四图样包括多个第四直线,其中各所述第四直线平行于各所述第二直线,且所述多个第二直线之间的所述第二间距大于所述多个第四直线之间的第四间距;

对呈现有所述第四图样的所述投影面拍摄第四影像;

在所述第四影像中找出至少一第四特定线段,其中各所述第四特定线段包括至少一第四转折点;

当判定所述第三影像中的所述至少一第三转折点及所述第四影像中的所述至少一第四转折点适合用于描绘第三轮廓,则依据所述第三影像中的所述至少一第三转折点及所述第四影像中的所述至少一第四转折点描绘所述第三轮廓;以及

当判定所述第三轮廓匹配于所述非平面区域的所述区域轮廓,基于所述第三轮廓产生一第三遮罩图样,其中所述第三遮罩图样用以遮蔽所述第三轮廓的外部区域。

4.根据权利要求1所述的产生遮罩的方法,其特征在于,所述第一图样还包括多个第二直线,其中所述多个第二直线的其中之一不平行于所述多个第一直线的其中之一,且所述产生遮罩的方法还包括:

在所述第一影像中找出至少一第二特定线段,其中各所述第二特定线段包括至少一第二转折点;以及

当判定所述第一影像中的所述至少一第一转折点及所述至少一第二转折点适合用于描绘所述第一轮廓,则依据所述第一影像中的所述至少一第一转折点及所述至少一第二转折点描绘所述第一轮廓。

5.根据权利要求1所述的产生遮罩的方法,其特征在于,所述至少一第一转折点的数量为至少三个,且依据所述至少一第一转折点描绘所述第一轮廓的步骤包括:

将所述至少三个第一转折点其中各相邻的两者连接以形成封闭线段,并以所述封闭线段作为所述第一轮廓。

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