[发明专利]曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，经由投影光学系统以照明光使物体曝光，其特征在于，所述曝光装置具备：

保持部，保持所述物体；

位置测量部，包含测量部与被测量部，根据所述测量部的输出取得所述保持部的位置信息；以及

第1驱动部，使所述保持部上的所述测量部与所述被测量部中的一方相对于另一方相对移动。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置具备使所述测量部与所述被测量部移动的第2驱动部；

所述第1驱动部使所述测量部与所述被测量部中的一方相对于另一方往第1方向相对移动；

所述第2驱动部一边使所述保持部往与所述第1方向交叉的第2方向移动、一边使所述测量部与所述被测量部往所述第2方向移动。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述第1驱动部与所述第2驱动部中的一方是由另一方从下方支承的。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述位置测量部具有：具有在所述第1方向上彼此分离配置的多个格子区域的所述被测量部、相对于所述被测量部分别照射测量光束且能在包含所述第1方向及所述第2方向在内的既定平面内移动的多个所述测量部、以及测量在所述第2方向上的多个所述测量部的位置信息的测量装置；

多个所述测量部被设在所述保持部上，且所述被测量部设置成与所述测量部对向，根据所述测量光束照射于所述多个格子区域中的至少1个的多个所述测量部的测量信息和所述测量装置的测量信息，测量所述保持部的位置信息。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述测量装置具有：具有在所述第2方向上彼此分离配置的多个格子区域的所述被测量部、以及相对于所述被测量部分别照射测量光束且能在包含所述第1方向及所述第2方向在内的既定平面内移动的多个所述测量部。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置具备支承所述投影光学系统的框架构件；

所述被测量部设于所述框架构件。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置具备形成装置，所述形成装置具有保持既定图案的图案保持体、和在所述第1方向上驱动所述图案保持体的第3驱动部，并使用能量束经由所述图案保持体在所述物体形成所述图案。

8.根据权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，所述物体是用于平面显示器的基板。

9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，所述基板的至少一边的长度或对角长为500mm以上。

10.一种平面显示器的制造方法，其特征在于，所述平面显示器的制造方法包含：

使用权利要求8或9所述的曝光装置使所述物体曝光的动作；以及

使曝光后的所述物体显影的动作。

11.一种组件制造方法，其特征在于，所述组件制造方法包含：

使用权利要求7所述的曝光装置使所述物体曝光的动作；以及

使曝光后的所述物体显影的动作。

12.一种曝光方法，经由投影光学系统以照明光使物体曝光，其特征在于，所述曝光方法包含：

根据包含测量部与被测量部在内的位置测量部的所述测量部的输出，取得保持所述物体的保持部的位置信息的动作；以及

以第1驱动部使所述保持部上的所述测量部与所述被测量部中的一方相对于另一方相对移动的动作。