[发明专利]冗余图形的检测方法

说明书

本发明提供了一种冗余图形的检测方法，包括：查找长度和宽度符合设计规则的多个图形，得到第一冗余图形；选择第一冗余图形之间的相对距离符合第一预设值的部分作为第一区域；从第一区域内的第一冗余图形之间的间隔部分选出长度和宽度符合第二预设值的多个间隔图形，组成第二区域；选择与第二区域相邻的第一冗余图形作为第二冗余图形；对第二冗余图形中的每个图形向外扩展第一预设值的一半得到第三区域；扩展第三区域，形成第四区域；将第四区域的边界向内收缩得到第五区域；用冗余图形的可添加区域去除所述第五区域，并输出剩余的区域。本发明可以使得冗余图形的添加的检测更加全面，并且还能减少输出结果的数量，从而减少查看结果的时间。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，尤其是涉及冗余图形的检测方法。

背景技术

集成电路制造过程中，为了提高刻蚀及化学机械研磨等半导体加工工艺的均匀性，通常需在版图设计完成后对图形分布较为稀疏的区域进行冗余图形添加。

设计规则制定者即半导体制造工厂通常在设计规则中预先定义各层次冗余图形的形状、大小、相对距离以及偏移距离并提供相应添加程序。通常情况下，冗余图形的添加方式是将固定尺寸的单个图形或组合图形按固定间距沿着X或Y其中之一方向，或者两个方向进行偏移交错填充。该添加方式的冗余图形，其几何特征主要包含尺寸、相对距离和偏移距离。

为保证冗余图形添加的准确性，通常需要在冗余图形添加完成后进行冗余图形检测。设计规则中定义了冗余图形尺寸、相对距离和偏移距离三大几何特征，添加冗余图形的三大几何特征均应等于设计规则。而传统的检测方法是最小规则检查，分别将冗余图形尺寸小于设计规则或/和相对距离小于设计规则的冗余图形输出。该检测方法不包含尺寸及相对距离大于设计规则的检测，且未包含偏移距离的检测，检测不够全面，不能完全保证冗余图形添加的准确性，此外，小于设计规则的冗余图形为独立的点输出，输出结果的数量较大，结果查看较为耗时。

发明内容

本发明的目的在于提供冗余图形的检测方法，除了可以检测冗余图形的尺寸或冗余图形的相对距离小于设计规则的情况，检测还可以检测冗余图形的尺寸或冗余图形的相对距离大于设计规则的情况，从而提高冗余图形添加的准确性；并且还可以将检测的冗余图形的尺寸或冗余图形的相对距离不符合设计规则的冗余图形以区域的形式输出，从而减少输出结果的数量。

为了达到上述目的，本发明提供了一种冗余图形的检测方法，用于对添加后的冗余图形进行尺寸、相对距离和偏移距离的检测，包括：

从添加后的冗余图形中查找长度和宽度符合设计规则的冗余图形，得到多个第一冗余图形；

选择所述第一冗余图形之间的相对距离符合第一预设值的多个第一冗余图形，并将其作为第一区域；

从所述第一区域内的第一冗余图形之间的间隔部分选出长度和宽度符合第二预设值的多个间隔图形，多个所述间隔图形组成第二区域；

选择与所述第二区域相邻的所述第一冗余图形作为第二冗余图形；

对所述第二冗余图形中的每个图形向外扩展第一预设值的一半，以得到第三区域，所述第三区域围绕了一个无图形区域；

扩展所述第三区域，并覆盖所述无图形区域，以组成第四区域；

将所述第四区域的边界向内收缩所述第一预设值的一半，以得到第五区域；

用冗余图形的可添加区域去除所述第五区域，并输出剩余的区域。

可选的，在所述的冗余图形的检测方法中，所述第一冗余图形也具有偏移距离，第一冗余图形的偏移距离包括在横坐标方向的第一偏移值和在纵坐标方向上的第二偏移值。

可选的，在所述的冗余图形的检测方法中，所述相对距离包括横向相对距离和纵向相对距离。