[发明专利]一种负极片及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202010479850.X 申请日: 2020-05-29
公开(公告)号: CN111613774A 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 袁号;李素丽;赵伟;李俊义;徐延铭 申请(专利权)人: 珠海冠宇电池股份有限公司
主分类号: H01M4/134 分类号: H01M4/134;H01M4/1395;H01M4/36;H01M4/38;H01M4/587;H01M10/0525
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 朱颖;臧建明
地址: 519180 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 负极 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种负极片,其特征在于,所述负极片包括集流体和N层活性层,所述活性层包括碳材料和硅材料,所述活性层的层数集合记为S={1,2,…,i-1,i,…,N},N≥2,其中,第一层活性层指向第N层活性层的方向为逐渐远离所述集流体的方向;

其中,第(i-1)层活性层中所述硅材料的质量大于第i层活性层中所述硅材料的质量,第(i-1)层活性层中所述碳材料的质量小于第i层活性层中所述碳材料质量。

2.根据权利要求1所述的负极片,其特征在于,第一层活性层中硅材料的质量不高于所述硅材料和所述碳材料总质量的90%,第N层活性层中硅材料的质量不低于所述硅材料和所述碳材料总质量的10%。

3.根据权利要求1-2任一项所述的负极片,其特征在于,在所述硅材料质量为所述硅材料和所述碳材料总质量50-90%的所述活性层上分别设置导电层。

4.根据权利要求3所述的负极片,其特征在于,所述导电层的厚度随所述活性层中硅材料质量的降低逐层递减。

5.根据权利要求3或4所述的负极片,其特征在于,所述导电层的总厚度为0.01-5μm。

6.根据权利要求1-5任一项所述的负极片,其特征在于,所述负极片的厚度为10-500μm。

7.根据权利要求1-6任一项所述的负极片,其特征在于,所述硅材料为纯纳米硅、结晶硅、非结晶硅、硅氧材料、硅碳材料中的一种或多种。

8.根据权利要求1-7任一项所述的负极片,其特征在于,所述碳材料为天然石墨、人造石墨、碳微球、软碳、硬碳、石墨烯材料中的一种或多种。

9.一种权利要求1-8任一项所述负极片的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

在集流体表面依次涂布N层活性层浆料,得到所述负极片;

其中,所述N层活性层浆料中层数的集合记为S={1,2,…,i-1,i,…,N},N≥2,第(i-1)层活性层浆料中所述硅材料的质量大于第i层活性层浆料中所述硅材料的质量,第(i-1)层活性层浆料中所述碳材料的质量小于第i层活性层中浆料所述碳材料的质量。

10.一种锂离子电池,其特征在于,包括权利要求1-8任一项所述的负极片或权利要求9所述制备方法得到的负极片。

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