[发明专利]基于高光谱成像技术的大麦叶部病害侵染位点可视化方法在审
| 申请号： | 202010480436.0 | 申请日： | 2020-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN111751292A | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 聂鹏程;瞿芳芳;蔺磊;陈卓怡;张慧 | 申请（专利权）人： | 浙江大学山东工业技术研究院;山东求是农创农业科技发展有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/25 | 分类号： | G01N21/25 |
| 代理公司： | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人： | 徐关寿 |
| 地址： | 277000 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 光谱 成像 技术 大麦 病害 侵染 可视化 方法 | ||
1.基于高光谱成像技术的大麦叶部病害侵染位点可视化方法，包括如下步骤：
（1）采集待测大麦叶片的高光谱图像；
（2）对步骤（1）得到的高光谱图像进行光谱解混分析，其中，设定端元数目为3±1，使用VCA提取端元光谱，利用得到的端元光谱进行丰度估计，得到各端元的丰度图，根据丰度图确定大麦叶部受病害侵染的位点。
2.如权利要求1所述的基于高光谱成像技术的大麦叶部病害侵染位点可视化方法，其特征在于：当大麦叶部受到病害侵染时，丰度图上能观察到亮斑和/或暗斑，即为大麦叶部受病害侵染的位点；从侵染阶段而言，其中暗斑是由相应的亮斑演变而来。
3.如权利要求1或2所述的基于高光谱成像技术的大麦叶部病害侵染位点可视化方法，其特征在于：所述的病害为稻瘟病菌。
4.如权利要求1或2所述的基于高光谱成像技术的大麦叶部病害侵染位点可视化方法，其特征在于：步骤（1）中，高光谱图像的采集光谱范围是可见-短波近红外光谱。
5.如权利要求1或2所述的基于高光谱成像技术的大麦叶部病害侵染位点可视化方法，其特征在于：步骤（1）具体按照如下实施：将大麦叶片样本放置于一块黑板上，并用胶带将叶片的两端都固定以减少表面弯曲可能带来的影响；采集参数为：曝光时间为0.03s，移动速度为3.2mm/s，样品到镜头的垂直距离为33cm。
6.如权利要求1或2所述的基于高光谱成像技术的大麦叶部病害侵染位点可视化方法，其特征在于：根据非负最小二乘分析进行丰度估计。
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