[发明专利]一种高透过宽色系盖板玻璃的制备方法

权利要求书

1.一种高透过宽色系盖板玻璃的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤一：制作玻璃基板

准备两块钠钙硅玻璃，将两块玻璃四边用UV胶水进行封边处理，再用固化机固化，清洗除去边缘溢胶，用纯水除去玻璃表面异物后，制成玻璃基板；

步骤二：刻蚀织构化结构

采用液相法，配置玻璃刻蚀液放入刻蚀槽内，加热到40-50℃，把玻璃基板放入刻蚀槽内，利用刻蚀液对玻璃基板上表面进行刻蚀5-30min，完成后对刻蚀好的玻璃基板清洗，玻璃基板上表面形成凹凸不平的织构化结构；

步骤三：沉积SiO₂保护层

将具有织构化结构的玻璃基板放入等离子体清洗腔室，对玻璃基板的织构化结构面清洗10-30min，清洗后关闭射频电源，静止30min，待玻璃基板上表面温度冷却至室温后，在不破真空情况下把玻璃基板转移至磁控溅射腔室，通过磁控溅射技术在玻璃基板的织构化结构表面溅射生长出厚度为30-90nm的SiO₂保护层；

步骤四：沉积SiN_X介质干涉层

将步骤三中的玻璃基板破真空取出后，翻转放入等离子体清洗腔室，对玻璃基板下表面清洗10-30min，清洗后关闭射频电源，静止30min，待玻璃基板下表面温度冷却至室温后，在不破真空情况下把玻璃基板转移至磁控溅射腔室，通过磁控溅射技术在玻璃基板下表面溅射生长出厚度为30-600nm的SiN_X介质干涉层。

2.根据权利要求1所述的一种高透过宽色系盖板玻璃的制备方法，其特征在于：所述步骤一中，准备两块厚度为3.2mm的钠钙硅玻璃。

3.根据权利要求1所述的一种高透过宽色系盖板玻璃的制备方法，其特征在于：所述步骤二中，玻璃刻蚀液的配方为：按重量比将稀盐酸60-70%，氟化氢胺10-15%，草酸2-8%，余量为水混合制成。

4.根据权利要求1所述的一种高透过宽色系盖板玻璃的制备方法，其特征在于：所述步骤三中，将具有织构化结构的玻璃基板放入等离子体清洗腔室，设置本体真空度≤5×10^-3Pa，工作压强为1-10×10^-1Pa，Ar气流量为30-40sccm，入射角度为20-45°，射频功率为200w。

5.根据权利要求1所述的一种高透过宽色系盖板玻璃的制备方法，其特征在于：所述步骤三中，磁控溅射技术具体为：采用SiO₂陶瓷靶材，Ar气做为工艺气体，工艺气体流量为40-60sccm，采用射频电源对Ar气进行离化，射频电源功率为100-250w，溅射时间5-12min。

6.根据权利要求1所述的一种高透过宽色系盖板玻璃的制备方法，其特征在于：所述步骤四中，将玻璃基板翻转放入等离子体清洗腔室，设置本体真空度≤5×10^-3Pa，工作压强为1-10×10^-1Pa，Ar气流量为30-40sccm，入射角度为20-45°，射频功率为200w。

7.根据权利要求1所述的一种高透过宽色系盖板玻璃的制备方法，其特征在于：所述步骤四中，磁控溅射技术具体为：采用Si₃N₄陶瓷靶材，Ar气做为工艺气体，工艺气体流量为40-60sccm，N₂气做为反应气体，反应气体流量为40-60sccm，采用射频电源对Ar气进行离化，射频电源功率为150-200w，反应溅射5-90min。