[发明专利]一种离子型稀土浅层地下水污染防控方法有效

专利信息
申请号: 202010483720.3 申请日: 2020-06-01
公开(公告)号: CN111622269B 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 舒荣波;李超;程蓉 申请(专利权)人: 中国地质科学院矿产综合利用研究所
主分类号: E02D31/00 分类号: E02D31/00
代理公司: 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 代理人: 蒋斯琪
地址: 610041 四川省*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 离子 稀土 地下 水污染 方法
【权利要求书】:

1.一种离子型稀土浅层地下水污染防控方法,其特征在于,包括以下步骤:

A、在开采区,采用注浆防渗方法在开采区深部的基岩断裂带构筑水平防渗帷幕,在浅层基岩破碎带构筑垂向防渗帷幕,将开采区从矿区的地下水环境中独立出来;所述水平防渗帷幕和垂向防渗帷幕的防渗标准均为透水率1Lu;所述垂向防渗帷幕的顶部高于地表水或浅层地下水的平均水位;

B、基于构筑的水平防渗帷幕和垂向防渗帷幕范围,在该范围内的注液富集区安装自控抽提井,用于控制开采区浅层地下水的水位低于区外潜水位;

C、在开采区的外围设置数个地下水监测井,在试采期测试防渗帷幕和自控抽提井抽提工程对开采区内浅层地下水水位的控制效果,得到相应的监测结果,再根据监测结果改进防控工程;所述监测结果是指监测井的水质和水位监测结果,具体包括监测井的水位和浸出剂浓度;

D、在开采期,监测区外地下水的水质,用以调节抽提水位控制;

E、在开采结束期,先往矿体表层的注液孔中注入少量清水,回收残余浸出剂,再用低浓度氢氧化钙溶液进行注液顶洗。

2.根据权利要求1所述的一种离子型稀土浅层地下水污染防控方法,其特征在于:在步骤B中,是依据开采区注液孔的布置、单孔注液强度及未开采时的浸润线确定需要安装的自控抽提井个数及自控抽提井深度;其中,开采区内浸润线的位置低于开采区外潜水层的位置。

3.根据权利要求1所述的一种离子型稀土浅层地下水污染防控方法,其特征在于:在步骤B中,开采区浅层地下水位控制是由安装的多个自控抽提井构成井阵来实现,当开采区外围的地下水监测井中浸出剂含量超过设定值时,则需要调整降低自控抽提井的控制水位。

4.根据权利要求1所述的一种离子型稀土浅层地下水污染防控方法,其特征在于:在步骤C中,所述地下水监测井分布于矿区浅层地下水流线上。

5.根据权利要求1所述的一种离子型稀土浅层地下水污染防控方法,其特征在于:在步骤D中,监测地下水监测井中地下水的水质,当监测到某监测井中的浸出剂含量高于预设值时,则加大对应开采区自控抽提井的抽提量,以调节自控抽提井的水位。

6.根据权利要求1所述的一种离子型稀土浅层地下水污染防控方法,其特征在于:在步骤E中,采用低浓度氢氧化钙溶液是进行少量多次的注液顶洗,其中低浓度氢氧化钙溶液的pH值8-9,单次顶洗量为每立方米矿石500L弱碱溶液,顶洗次数为2-3次。

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