[发明专利]基于石墨烯的相位调制器、调制方法及制备方法在审
申请号: | 202010484876.3 | 申请日: | 2020-06-01 |
公开(公告)号: | CN111736367A | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 王树龙;张倩;胡泽宇;蔡鸣;杜林;张海峰;陈燕宁;周芝梅 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | G02F1/01 | 分类号: | G02F1/01;G02F1/00;C23C28/00;C23C14/35;C23C16/26;C23C16/24;C23C16/40;C23C14/16 |
代理公司: | 西安睿通知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 61218 | 代理人: | 惠文轩 |
地址: | 710071*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 石墨 相位 调制器 调制 方法 制备 | ||
1.基于石墨烯的相位调制器,其特征在于,包括:自下而上设置于基板上的衬底层、夹层结构和金属层,其中,所述夹层结构自下而上依次包含下约束层、石墨烯层和上约束层;所述石墨烯层的部分表面具有金属薄膜,用于作为外加电压的接地端。
2.根据权利要求1所述的基于石墨烯的相位调制器,其特征在于,所述衬底层为二氧化硅层;所述上约束层和下约束层分别为硅层;所述金属层为铝层。
3.根据权利要求1所述的基于石墨烯的相位调制器,其特征在于,所述相位调制器为立方体结构;所述衬底层、夹层结构和金属层的尺寸为:长度1-18μm,宽度200-500nm。
4.根据权利要求1所述的基于石墨烯的相位调制器,其特征在于,所述衬底层的厚度为50-150nm,所述下约束层的厚度为5nm-40nm,所述石墨烯层的厚度为0.7nm,所述上约束层的厚度为5-40nm,所述金属层的厚度为5-40nm。
5.根据权利要求4所述的基于石墨烯的相位调制器,其特征在于,所述衬底基板的厚度为100nm,所述下约束层的厚度为30nm,所述石墨烯层的厚度为0.7nm,所述上约束层的厚度为20nm,所述金属层的厚度为15nm。
6.根据权利要求1所述的基于石墨烯的相位调制器,其特征在于,所述下约束层的一个相对侧面上具有光栅耦合器。
7.基于石墨烯的相位调制器的调制方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1,设置入射光波长,利用外加电压与石墨烯光电导之间的对应关系,确定第一外加电压、第二外加电压和第三外加电压;
步骤2,在石墨烯层与金属层之间依次分别加第一外加电压、第二外加电压和第三外加电压,改变石墨烯层的光导率,从而实现入射光的相位调制。
8.根据权利要求7所述的基于石墨烯的相位调制器的调制方法,其特征在于,所述利用外加电压与石墨烯光电导之间的对应关系,确定第一外加电压、第二外加电压和第三外加电压,具体为:
首先,获取外加电压与石墨烯光电导之间的对应关系:
σ=Re(σ)+Im(σ)=(σ′intra+σ′inter)+(iσ″intra++iσ″inter)
其中,μ是石墨烯的费米能级,d是上约束层的厚度,vF是石墨烯的费米速度,是约化普朗克常数,n0为石墨烯中载流子浓度,V0为石墨烯本征电压,e是电子电荷量,V是外加电压,ε0、εr分别是真空介电常数和上约束层的相对介电常数;σinter是带间光导率,σ′inter是带间光导率的实部,σ″inter是带间光导率的虚部;σintra是带内光导率,σ′intra是带内光导率的实部,σ″intra带内光导率的虚部;ω是入射光角频率;σ0=πe2/2h,是本征光电导,h是普朗克常数;τ1是带内弛豫时间,τ2是带间弛豫时间;
其次,选取石墨烯光导率的虚部大于零对应的电压范围(m,n)为候选电压区间,即σ″intra+σ″inter>0对应的V的取值范围;
最后,取候选电压区间的起始点m为第一外加电压,设定电压增量为k,则第二外加电压为m+k,第三外加电压为m+2k;
其中,0.1<k<0.3。
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