[发明专利]基于二维和三维钙钛矿复合结构的突触晶体管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010487655.1 申请日: 2020-06-02
公开(公告)号: CN111628078B 公开(公告)日: 2022-09-06
发明(设计)人: 陈大正;张春福;田百川;庞商政;朱卫东;樊刚;张进成;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/30;H01L51/40
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 基于 维和 三维 钙钛矿 复合 结构 突触 晶体管 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种基于二维和三维钙钛矿复合结构的突触晶体管,自下而上包括:玻璃衬底(1)、透明氧化物栅电极(2)、钙钛矿区(3)、源电极(4)、漏电极(5)、封装保护层(6),其特征在于:

所述钙钛矿区(3)自下而上分为离子介质层(31)、离子阻挡层(32)和导电沟道层(33);

该离子介质层(31)采用三维钙钛矿材料,其作为突触晶体管的栅极,用于模拟生物神经突触前膜;

该离子阻挡层(32)采用氧化物材料,用于防止离子介质层(31)中的离子流入导电沟道层(33);

该导电沟道层(33)采用二维钙钛矿材料,用于有效实现信号的转移。

2.根据权利要求1所述的晶体管,其特征在于,玻璃衬底(1)采用透光率大于80%的导电玻璃,使光可以从衬底一侧进入器件。

3.根据权利要求1所述的晶体管,其特征在于,透明氧化物栅电极(2)采用FTO或ITO材料。

4.根据权利要求1所述的晶体管,其特征在于:

所述离子介质层(31)采用的三维钙钛矿材料,是厚度为300-500 nm的有机无机杂化钙钛矿CH3NH3PbI3或纯无机钙钛矿CsPbBr3

所述离子阻挡层(32)采用的氧化物材料,是厚度为10-20 nm的Al2O3或MoO3

所述导电沟道层(33)采用的二维钙钛矿材料,是厚度为100-300 nm的(PEA)2PbBr4

5.根据权利要求1所述的晶体管,其特征在于,源电极(4)和漏电极(5)均采用厚度为100-200 nm的Au,且源电极(4)与漏电极(5)之间的间距为50-200 μm。

6.根据权利要求1所述晶体管,其特征在于,封装保护层(6)采用厚度为150-300 nm的聚甲基丙烯酸甲酯PMMA。

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