[发明专利]一种导流洞与灌浆洞的平面交叉方法及结构在审

专利信息
申请号: 202010488722.1 申请日: 2020-06-02
公开(公告)号: CN111535240A 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 张金良;刘继祥;刘庆亮;杨顺群;王惠芹;付健 申请(专利权)人: 黄河勘测规划设计研究院有限公司
主分类号: E02B1/00 分类号: E02B1/00;E02B7/00;E02B3/02;E02D19/04;E02D15/02
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 韩雪梅
地址: 450003 *** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 导流 灌浆 平面交叉 方法 结构
【权利要求书】:

1.一种导流洞与灌浆洞的平面交叉结构,其特征在于:包括上层灌浆洞、下层灌浆洞、导流洞和交通洞,所述下层灌浆洞中设置有位于所述导流洞下方的下穿段,所述交通洞穿过所述导流洞且所述交通洞的两端分别与所述下穿段的两端连通,所述交通洞位于所述导流洞中的部分为交通廊道;所述上层灌浆洞位于所述导流洞的上方,所述下层灌浆洞的高程与所述导流洞的高程相同。

2.根据权利要求1所述的导流洞与灌浆洞的平面交叉结构,其特征在于:所述上层灌浆洞内设置有第一灌浆帷幕和第一排水孔,所述下穿灌浆洞内设置有第二灌浆帷幕、第三灌浆帷幕和第二排水孔,所述第三灌浆帷幕水平。

3.根据权利要求2所述的导流洞与灌浆洞的平面交叉结构,其特征在于:所述下穿段通过第三排水孔与所述交通廊道连通,所述第三排水孔竖直,所述第三排水孔通过排水管与所述第二排水孔连通。

4.根据权利要求2所述的导流洞与灌浆洞的平面交叉结构,其特征在于:所述导流洞的四周设置有环形灌浆帷幕,所述第一灌浆帷幕与所述环形灌浆帷幕搭接;所述第三灌浆帷幕水平与所述环形灌浆帷幕的底部搭接。

5.根据权利要求4所述的导流洞与灌浆洞的平面交叉结构,其特征在于:所述第一灌浆帷幕与所述环形灌浆帷幕搭接的长度、所述第三灌浆帷幕水平与所述环形灌浆帷幕的底部搭接的长度均≥5m。

6.根据权利要求1所述的导流洞与灌浆洞的平面交叉结构,其特征在于:所述下穿段包括依次连接的第一斜坡段、水平段和第二斜坡段,所述第一斜坡段和所述第二斜坡段远离所述水平段的一端分别与所述下层灌浆洞连通。

7.根据权利要求6所述的导流洞与灌浆洞的平面交叉结构,其特征在于:所述第一斜坡段和所述第二斜坡段远离所述水平段的一端与所述导流洞之间的距离均大于或等于所述导流洞的宽度,所述第一斜坡段和所述第二斜坡段的坡度均≤45°。

8.一种基于权利要求1-7任意一项所述的导流洞与灌浆洞的平面交叉结构的导流洞与灌浆洞的平面交叉方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)导流洞建成后,使导流洞过水;上层灌浆洞施工从导流洞上部水平通过,下层灌浆洞施采用下穿方式从导流洞下部通过;

(2)在所述上层灌浆洞内设置第一灌浆帷幕和第一排水孔,在所述下穿灌浆洞内设置第二灌浆帷幕、第三灌浆帷幕和第二排水孔;

(3)所述导流洞封堵期时,在所述下层灌浆洞的下穿段增设水平的交通洞,所述交通洞的高程与所述下层灌浆洞一致,在所述导流洞的两侧壁上开凿出灌浆洞水平交通洞相同的断面,使水平交通洞穿过导流洞;

(4)在所述下穿段向上垂直钻第三排水孔,所述第三排水孔伸入所述交通洞内,用排水管将第二排水孔和第三排水孔接;

(5)在所述导流洞四周做环形灌浆帷幕,所述环形灌浆帷幕的顶部帷幕深度为10-15m,并伸入到所述第一灌浆帷幕,所述第一灌浆帷幕与所述环形灌浆帷幕的搭接长度不小于5m,所述环形灌浆帷幕的两侧边墙的帷幕深度为10-15m;所述环形灌浆帷幕的底部帷幕深度伸入到所述第三灌浆帷幕,所述环形灌浆帷幕与所述第三灌浆帷幕的搭接长度不小于5m;

(6)用混凝土封堵所述下穿灌浆洞;

(7)用混凝土封堵所述导流洞;在所述导流洞封堵段,预留一个交通廊道,所述交通廊道的轴线与所述交通洞的轴线一致,所述交通廊道的断面与水平交通洞的断面相同。

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