[发明专利]一种一体黑电容式触摸屏及其制作方法在审
申请号: | 202010489959.1 | 申请日: | 2020-06-02 |
公开(公告)号: | CN111562863A | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
发明(设计)人: | 郑建军;余志辉;钟素文;夏大映;王胜;徐松 | 申请(专利权)人: | 芜湖长信科技股份有限公司 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044;G06F3/041 |
代理公司: | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人: | 方文倩 |
地址: | 241009 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 一体 电容 触摸屏 及其 制作方法 | ||
1.一种一体黑电容式触摸屏,包括载体以及设于所述载体上面的触摸导电层,其特征在于:所述触摸导电层包括BM层,设于BM层上面的第一IM层,设于第一IM层上面的第一ITO层,在所述第一ITO层上面设有第一绝缘层,制作于第一绝缘层上面的第二ITO层,在所述第二ITO层设有金属层,在所述金属层上设有第二IM层,所述第二IM层上设有第二绝缘层。
2.按照权利要求1所述的一体黑电容式触摸屏,其特征在于:所述载体为是玻璃或者薄膜。
3.按照权利要求1所述的一体黑电容式触摸屏其制作方法,其特征在于:所述BM层为黑色矩阵层,采用黑色负性感光材料通过光刻的方法制作。
4.按照权利要求1所述的一体黑电容式触摸屏其制作方法,其特征在于:触摸导电层的第一IM层和第二IM层,均是通过镀膜溅射的工艺制作。
5.按照权利要求1所述的一体黑电容式触摸屏其制作方法,其特征在于:所述触摸导电层的第一ITO层和第二ITO层,分布在可视区,均是通过镀膜、光刻、蚀刻的工艺制作。
6.按照权利要求1所述的一体黑电容式触摸屏其制作方法,其特征在于:利用黄光光刻工艺制作的位于第一ITO层上面的第一绝缘层。
7.按照权利要求1所述的一体黑电容式触摸屏其制作方法,其特征在于:利用镀膜溅射和黄光光刻、蚀刻工艺制作位于第二ITO层上面的金属层。
8.按照权利要求1所述的一体黑电容式触摸屏其制作方法,其特征在于:利用镀膜溅射制作位于金属层上面的第二IM层,以及利用黄光光刻工艺制作第二IM层上面的第二绝缘层。
9.按照权利要求8所述的一体黑电容式触摸屏其制作方法,其特征在于:在金手指区域的第二IM层通过印刷蚀刻工艺去除。
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