[发明专利]一种用于大直径硅片的研磨材料及其生产方法在审

专利信息
申请号: 202010490172.7 申请日: 2020-06-02
公开(公告)号: CN111607360A 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 马豪军;虞向荣 申请(专利权)人: 无锡晨旸科技股份有限公司
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14;H01L21/304
代理公司: 无锡市才标专利代理事务所(普通合伙) 32323 代理人: 张迎召
地址: 214000*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 直径 硅片 研磨 材料 及其 生产 方法
【权利要求书】:

1.一种用于大直径硅片的研磨材料及其生产方法,其特征在于,包括以下质量份数配比的原料:45%份硅酸锆ZrSiO4、55%份氧化铝Al2O3、少量矿化剂(催化剂和结合剂);

首先将选用的硅酸锆、选用的氧化铝按照质量比例导入混料仓进行混合均匀搅拌,搅拌均匀后导入回转窑进行烧结并添加矿化剂,烧结完成之后,将半成品料导入气流磨粉碎机进行颗粒粉碎,半成品料粉碎之后导入干式滚筒式球磨机进行粉碎筛选,粉碎筛选的混料与水进行混合,然后通过搅拌、沉降和虹吸等步骤进行分选,将分选好的物料通过低温烘干的方式进行干燥,最后通过激光粒度仪对分选的半成品料进行检验颗粒度大小。

2.根据权利要求1所述的一种用于大直径硅片的研磨材料,其特征在于,所述硅酸锆中氧化锆质量范围为25%-35%。

3.根据权利要求1所述的一种用于大直径硅片的研磨材料,其特征在于,所述干式滚筒式球磨机中筛选出半成品料颗粒大小为100目以下的细小颗粒。

4.一种用于大直径硅片的研磨材料及其生产方法,其特征在于,包括以下步骤:

步骤1:首先将选用的硅酸锆、选用的氧化铝按照质量比例导入混料仓进行混合搅拌,直至搅拌均匀为止导出;

步骤2:将混合均匀的物料导入回转窑内,回转窑内烧结温度范围为1500℃-1600℃,烧结时间为10h,回转窑内保温温度范围为1500℃-1600℃,保温时间为6h,回转窑的转速范围为2-3T/h,将催化剂和结合剂通过回转窑入口与半成品料进行混合烧结;

步骤3:烧结完成的半成品料进行冷却之后,导入气流磨粉碎机进行颗粒粉碎,粉碎均匀之后通过密封隔离袋进行装袋;

步骤4:将已经粉碎的半成品料导入分选桶内,半成品料和水的质量比为1:4,并添加适量比例的分散剂,进行充分搅拌,搅拌速度为300-500转/分钟,搅拌时间为5-60min;搅拌后静置沉降,沉降时间为10-30min,

步骤5:使用虹吸和溢流相结合的方法对半成品料进行分级,半成品料分级由细到粗进行,先分细级别的,后分粗级别的,直至全部分级完毕;

步骤6:使用低温烘箱对分级得到的微粒成品料进行低温烘干,直至干燥;

步骤7:使用激光粒度仪对干燥的微粒混料进行检测;

步骤8:检测不合格的混料返工处理,检测合格的混料入库。

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