[发明专利]X射线剂量面积乘积的检测方法、装置及存储介质

权利要求书

1.一种X射线剂量面积乘积的检测方法，其特征在于，包括：

获取X射线发生装置发射的X射线的曝光千伏、曝光毫安及曝光时长，并读取X射线限束器的开口面积；

基于剂量基准表得出X射线在基准曝光毫安、基准曝光时长及所述曝光千伏下的第一射线剂量值，其中所述剂量基准表中包括所述基准曝光毫安、所述基准曝光时长以及多个基准曝光千伏下对应的基准剂量值；

根据所述第一射线剂量值，得出X射线在所述曝光毫安、所述曝光时长及所述曝光千伏下的第二射线剂量值；

根据所述第二射线剂量值及所述X射线限束器的所述开口面积，得出X射线剂量面积乘积。

2.根据权利要求1所述的X射线剂量面积乘积的检测方法，其特征在于，所述第一射线剂量值的获取步骤包括：

根据所述曝光千伏，在所述剂量基准表中，查找到数值相邻的第一基准曝光千伏及第二基准曝光千伏，其中所述曝光千伏的值在所述第一基准曝光千伏及所编写第二基准曝光千伏之间；

根据所述第一基准曝光千伏对应的第一基准剂量值及所述第二基准曝光千伏对应的第二基准剂量值，获取所述第一射线剂量值。

3.根据权利要求2所述的X射线剂量面积乘积的检测方法，其特征在于，所述第一射线剂量值的计算方法为：

其中，D₁为所述第一射线剂量值，X₁为所述第一基准剂量，X₂为所述第二基准剂量，V₁为所述第一基准曝光千伏，V₂为所述第二基准曝光千伏，V为所述曝光千伏。

4.根据权利要求2所述的X射线剂量面积乘积的检测方法，其特征在于，还包括：若所述剂量基准表中存在与所述曝光千伏相等的所述基准曝光千伏，则所述第一射线剂量值为与所述曝光千伏相等的所述基准曝光千伏所对应的所述基准剂量值。

5.根据权利要求1所述的X射线剂量面积乘积的检测方法，其特征在于，所述第二射线剂量值的获取方法包括：

其中，D₁为所述第一射线剂量值，D₂为所述第二射线剂量值，I_b为所述基准曝光毫安，T_b为所述基准曝光时长，I为所述曝光毫安，T为所述曝光时长。

6.根据权利要求1所述的X射线剂量面积乘积的检测方法，其特征在于，还包括：预先在所述基准曝光毫安、所述基准曝光时长的条件下，对若干所述基准曝光千伏的X射线剂量进行测试，获得相应的基准剂量值，得到所述剂量基准表。

7.根据权利要求1所述的X射线剂量面积乘积的检测方法，其特征在于，所述剂量基准表中，所述基准曝光千伏间的间隔步长均为10KV。

8.一种X射线剂量面积乘积的检测装置，其特征在于，包括：

监听模块，用于与X射线摄影床通信总线相连接，通过监听总线数据获取X射线限束器的开口面积；

参数获取模块，用于获取X射线的曝光千伏、曝光毫安及曝光时长；

计算模块，用于使用权利要求1至7中任一项的方法，得出X射线剂量面积乘积。

9.根据权利要求8所述的X射线剂量面积乘积的检测装置，其特征在于，还包括：

通信模块，用于与上位机通信，用于发送所述X射线剂量面积乘积。

10.一种计算机存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至7中任一项的方法。