[发明专利]一种隔热增透膜及其制备方法和用途在审
申请号: | 202010492544.X | 申请日: | 2020-06-03 |
公开(公告)号: | CN112114389A | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 黄昱勇;杨陈楹;沈伟东;汤峰 | 申请(专利权)人: | 江苏万新光学有限公司;浙江大学 |
主分类号: | G02B1/115 | 分类号: | G02B1/115;G02B5/08 |
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地址: | 212331 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 隔热 增透膜 及其 制备 方法 用途 | ||
本发明提供了一种隔热增透膜及其制备方法和应用,所述隔热增透膜包括:依次排列的全介质减反膜系1、复合近红外反射膜系以及全介质减反膜系2;其中,所述复合近红外反射膜系由近红外反射膜和包裹在所述近红外反射膜两侧的全介质过渡膜组成。本发明获得的隔热增透膜实现了对于近红外波段的隔热效果,保护仪器工作或人眼免受热量堆积的干扰,大幅提高相应镜片或元件的使用寿命,同时实现了膜层的可见光高透过性,成本低廉,制备工艺简便,具有广泛的应用价值。
技术领域
本发明涉及光学膜制备技术领域,具体涉及一种隔热增透膜及其制备方法和用途。
背景技术
增透膜是光学薄膜领域应用范围最广的一种薄膜,用以减少基底与空气界面折射率不匹配引起的反射从而增加光线的透射,已广泛应用于显示、成像、眼镜片制备等诸多领域。目前,增透膜主要有干涉膜层或折射率渐变的光学微纳结构膜两种。其中,干涉膜层有单层、双层、多层之分,以对应不同的带宽以及增透效果要求;折射率渐变的光学微纳结构膜一般为单层薄膜,由低折射率膜层或基底形成。双层或多层干涉增透膜由高低折射率交替的膜堆堆叠而成。通过上述方式获得的增透膜可实现基板整体透过率97%以上(双面反射小于3%),甚至98.5%以上(双面反射小于1.5%)。
由于人眼可视范围为可见光波段,因此,常见的可见光波段增透膜对近红外波段无明确调制,然而由于太阳光光谱覆盖了紫外-可见-近红外波段,其中近红外波段能量占50%左右,故需要将近红外能量隔绝以避免不要的热量堆积。然而目前现有技术中缺乏阻隔近红外波段的隔热增透膜层,这是本领域亟需解决的技术问题。
发明内容
为克服现有技术缺陷,本发明旨在于提供一种隔热增透膜及其制备方法和用途,有效提高光透射率的同时能够显著隔热。
本发明的技术方案是通过以下方式实现的:
本发明的第一方面提供了一种隔热增透膜,包括:依次排列的全介质减反膜系1、复合近红外反射膜系以及全介质减反膜系2;其中,所述复合近红外反射膜系由近红外反射膜和包裹在所述近红外反射膜两侧的全介质过渡膜组成;
进一步的,全介质减反膜系1和全介质减反膜系2均由高折射率材料层以及低折射率材料层交替堆积形成;更进一步的,所述全介质减反膜系2的最外层为低折射率材料层;
更进一步的,所述高折射率材料选自二氧化钛、二氧化铪、五氧化二钽、氮化硅、硫化锌中任意一种或几种;进一步优选的,所述高折射率材料为二氧化钛;更进一步的,所述低折射率材料选自二氧化硅、三氧化二铝、氟化物中的任意一种或几种;进一步优选的,所述低折射率材料为二氧化硅;
更进一步的,所述全介质减反膜层1为2~35层;优选的,所述全介质减反膜层1为6~24层;
更进一步的,所述全介质减反膜层2为2~12层;优选的,所述全介质减反膜层2为2~8层;
更进一步的,所述全介质减反膜层1和全介质减反膜层2中,高折射率材料膜层厚度为6~180nm;进一步优选的,所述高折射率材料膜层厚度为8~120nm;更进一步的,所述全介质减反膜层1和全介质减反膜层2中,低折射率材料膜层厚度为6~300nm;进一步优选的,所述低折射率材料膜层厚度为10~260nm;
进一步的,复合近红外反射膜系中,所述全介质过渡膜材料包括但不限于Al2O3,SiO2,ZrO2中的任意一种或几种;
更进一步的,复合近红外反射膜系中,所述全介质过渡膜为0~6层;优选的,所述全介质过渡膜为0~2层;
更进一步的,复合近红外反射膜系中,所述全介质过渡膜层厚度为6~300nm;优选的,所述全介质过渡膜层厚度为8~120nm;
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