[发明专利]一种芯区压缩型光纤马赫-曾德干涉器的制备方法有效
申请号: | 202010492961.4 | 申请日: | 2020-06-02 |
公开(公告)号: | CN111579535B | 公开(公告)日: | 2023-03-31 |
发明(设计)人: | 姚一村;陈南光;王宗良;田振;张丽强;任世杰;纪红柱 | 申请(专利权)人: | 聊城大学 |
主分类号: | G01N21/45 | 分类号: | G01N21/45;G02B6/245 |
代理公司: | 青岛致嘉知识产权代理事务所(普通合伙) 37236 | 代理人: | 高维波 |
地址: | 252059 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 压缩 光纤 马赫 干涉 制备 方法 | ||
1.一种芯区压缩型光纤马赫-曾德干涉器的制备方法,其特征在于,包括步骤如下:
步骤A:部分去除单模光纤或少模光纤一侧的包层,得到一个平行于纤芯中轴线的平面;
步骤B:在步骤A所得到的平面上继续刻蚀形成两条沟槽;所述两条沟槽的边缘为直线,所述直线互相平行;所述两条沟槽相对于光纤中轴线成对称分布;两沟槽内侧壁的间距小于光纤基模尺寸;
通过沟槽对光纤芯层进行额外的限制,此时芯层在两个维度上分别处于“弱导”条件和远离截止的“强导”条件,使得光纤芯层内存在一系列有效折射率远低于光纤包层的特殊模态,即称之为光纤“离轴”模态。
2.一种芯区压缩型光纤马赫-曾德干涉器的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤A:部分去除单模光纤或少模光纤双侧的包层,形成两个相对的平面;
步骤B:在步骤A形成的两平面上,刻蚀形成两个沟槽;沟槽底部与光纤中轴线间的距离小于光纤基模模场分布半径;
通过沟槽对光纤芯层进行额外的限制,此时芯层在两个维度上分别处于“弱导”条件和远离截止的“强导”条件,使得光纤芯层内存在一系列有效折射率远低于光纤包层的特殊模态,即称之为光纤“离轴”模态。
3.权利要求1或2所述制备方法获得的干涉器在制备光纤传感器方面的应用。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于聊城大学,未经聊城大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010492961.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种主动式高散热型LED隧道灯
- 下一篇:一种超声波流量计管段及制造方法