[发明专利]一种工业污水处理装置及使用方法

权利要求书

1.一种工业污水处理装置，其特征在于，包括：

搅拌机构，所述搅拌机构设置在地面上，所述搅拌机构包括：

搅拌主体，所述搅拌主体连接在地面上；

升降设备，所述升降设备连接在所述搅拌主体下方，所述升降设备位于所述搅拌主体内部下表面，所述升降设备驱动所述搅拌主体用于调节搅拌主体的上下位置；

搅拌设备，所述搅拌设备连接在所述升降设备的上方，所述搅拌机构位于所述搅拌主体内部；

沉淀机构，所述沉淀机构设置在地面上，所述搅拌机构位于整体的右侧，所述沉淀机构包括：

沉淀主体,所述沉淀主体连接在地面上，所述沉淀主体位于所述搅拌机构的右侧；

净水设备，所述净水设备连接在所述沉淀壳体上，所述净水设备位于所述沉淀主体的中间；

沉淀设备，所述沉淀设备连接在所述净水设备的内部，所述沉淀设备位于所述沉淀主体的中间，所述沉淀设备用于驱动所述净水设备用于细致过滤工业污水；

污水收集盒，所述污水收集盒连接在所述沉淀设备的下表面，所述污水收集盒位于所述沉淀机构的下方；

封口设备，所述封口设备连接在所述污水收集盒的正面，所述封口设备位于所述沉淀机构的下方。

2.根据权利要求1所述的一种工业污水处理装置，其中，所述搅拌主体包括:

搅拌支架，所述搅拌支架设置在地面上，所述搅拌支架位于所述搅拌主体的下方；

搅拌壳体，所述搅拌壳体连接在所述搅拌支架的内圈位置，所述搅拌壳体位于所述搅拌机构中部，所述搅拌壳体下端正中心位置设置有孔洞；

搅拌封盖，所述搅拌封盖连接在所述搅拌壳体上方端面，所述搅拌封盖位于所述搅拌机构的上方，所述搅拌封盖的上端面设置有左右两个孔洞；

进污管道，所述进污管道连接在所述搅拌封盖的上方，所述进污管道位于所述搅拌封口上端表面的左侧的孔洞中；

药剂管道，所述连接在所述搅拌封盖的上方，所述药剂管道位于所述搅拌封口上端表面的右侧的孔洞中。

沉淀管道，所述沉淀管道连接在所述搅拌壳体下表面，所述沉淀管道位于所述沉淀壳体的下端孔洞内。

3.根据权利要求2所述的一种工业污水处理装置，其中，所述升降设备包括:

第一齿轮，所述第一齿轮连接在所述搅拌主体的下端面，所述第一齿轮位于所述搅拌主体下端的正中心；

升降电机，所述升降电机连接在所述第一齿轮正上方，所述升降电机位于所述搅拌主体下端正中心，所述升降电机上端设置立柱，所述升降电机下端驱动第一齿轮；

第二齿轮，所述第二齿轮连接在所述升降电机两侧，所述第二齿轮位于所述搅拌主体下端正中心，第二齿轮表面设置有凸起；

传动轴，所述传动轴连接在所述第二齿轮外表面，所述传动轴位于所述搅拌主体下端正中心，传动轴下端内侧设置有凹孔；

固定块，所述固定块连接在所述搅拌主体的下端面，所述固定块位于所述升降设备的下方，所述固定块上方设置有凸起；

滑杆，所述滑杆连接在所述固定块的上方，所述滑杆位于所述混合桶的底部，所述滑杆下方设置有凹孔；

混合桶，所述混合桶连接在所述搅拌壳体内表面的上端，所述混合桶位于所述滑杆的上端，所述混合桶内表面设置为锥形，所述混合桶锥形外表面设置立板，所述混合桶设置平板；

调节块，所述调节块连接在所述升降电机的立柱上，所述调节板位于所述升降电机上方；

活动块，所述活动块头部连接在所述滑杆上，所述活动块位于所述调节块四周。

4.根据权利要求3所述的一种工业污水处理装置，其中，所述搅拌设备包括:

搅拌电机，所述搅拌电机连接在所述混合桶下端，所述搅拌电机位于所述混合桶内部，所述搅拌电机上表面设置有挡板；

搅拌条，所述搅拌条连接在所述搅拌电机的挡板表面，所述搅拌条位于所述搅拌电机上方；

杂质滤芯，所述杂质滤芯连接在所述搅拌电机的挡板表面，所述杂质滤芯位于所述觉得电机正上方。

5.根据权利要求1所述的一种工业污水处理装置，其中，所述沉淀主体包括:

沉淀支架，所述沉淀支架连接设置在地面，所述沉淀支架位于所述搅拌支架右侧；

沉淀封盖，所述沉淀封盖位于所述沉淀机构上方；

排水管道，所述排水管道位于所述沉淀机构下端。