[发明专利]覆盖层用化合物及包含其的有机发光器件在审

专利信息
申请号: 202010494468.6 申请日: 2020-06-03
公开(公告)号: CN112028777A 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 咸昊完;安贤哲;金东骏;闵丙哲;林东焕;安慈恩;李政炫;权桐热;李成圭 申请(专利权)人: 东进世美肯株式会社
主分类号: C07C211/54 分类号: C07C211/54;C07C211/56;C07C217/84;C07C255/58;C07C323/36;C07D213/38;C07D213/74;H01L51/54;H01L51/52
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 金世煜;李书慧
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 覆盖层 化合物 包含 有机 发光 器件
【权利要求书】:

1.一种覆盖层用化合物,其特征在于,由以下化学式1表示:

化学式1

在所述化学式1中,

Ar1至Ar6各自独立地为由取代或未取代的C6的环结构形成的C6~C50的芳基、或者由取代或未取代的C2~C5的环结构形成的C2~C50的杂芳基,

l为0或1至5的整数。

2.根据权利要求1所述的覆盖层用化合物,其特征在于,所述化学式1由以下化学式2表示:

化学式2

在所述化学式2中,

Ar1至Ar3、Ar5、Ar6及l如所述化学式1中所定义,

X相互各自独立地为CR或N,

其中,R各自独立地为氢、重氢、卤素、硝基、腈基、取代或未取代的C1~C30的烷基、取代或未取代的C2~C30的烯基、取代或未取代的C1~C30的烷氧基、取代或未取代的C1~C30的硫醚基、由取代或未取代的C6的环结构形成的C6~C50的芳基、或者由取代或未取代的C2~C5的环结构形成的C2~C50的杂芳基。

3.根据权利要求2所述的覆盖层用化合物,其特征在于,所述化学式2由以下化学式3表示:

化学式3

在所述化学式3中,

Ar1、Ar2、Ar5、X及l如所述化学式2中所定义。

4.根据权利要求3所述的覆盖层用化合物,其特征在于,所述化学式3由以下化学式4表示:

化学式4

在所述化学式4中,

Ar1、Ar5及X如所述化学式3中所定义。

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的覆盖层用化合物,其特征在于,所述Ar1至Ar6的取代基各自独立地为选自由氢、甲基、乙基、丁基、丙基、甲氧基、腈基、氟基、苯基、联苯基、三联苯基、吡啶基及它们的组合组成的组中的一种以上。

6.根据权利要求2至4中的任一项所述的覆盖层用化合物,其特征在于,所述X为CH。

7.根据权利要求1至4中的任一项所述的覆盖层用化合物,其特征在于,所述Ar1选自由苯基、联苯基、三联苯基、吡啶基、嘧啶基、三嗪基及它们的组合组成的组中。

8.根据权利要求1至4中的任一项所述的覆盖层用化合物,其特征在于,包含在由所述化学式1至化学式4表示的化合物中的苯基的数量为10至14个。

9.根据权利要求1至4中的任一项所述的覆盖层用化合物,其特征在于,所述覆盖层用化合物包含一种以上的甲基、甲氧基、氟基、腈基或吡啶基作为取代基。

10.根据权利要求1至4中的任一项所述的覆盖层用化合物,其特征在于,所述覆盖层用化合物均具有对位连接基。

11.根据权利要求1至4中的任一项所述的覆盖层用化合物,其特征在于,所述覆盖层用化合物具有一种以上的间位或邻位连接基。

12.根据权利要求1所述的覆盖层用化合物,其特征在于,所述化学式1的化合物为以下化合物中的一个:

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