[发明专利]等离子体射流发生器参数优化方法、装置及存储介质

说明书

本发明公开了一种等离子体射流发生器参数优化方法、装置及存储介质，所述方法包括：对获取到的当前环境温度进行预处理；根据预处理之后的当前环境温度通过预先建立的射流质量预测模型确定优化输入参数。本发明方法通过考虑环境温度对输入参数的影响，通过预先建立的射流质量预测模型根据环境温度确定等离子体射流发生器在对应环境温度下的输入参数，使得射流可处理面积在当前环境温度条件下达到最优，减少环境温度对射流可处理面积的影响。

技术领域

本发明涉及离子射流技术领域，特别是一种等离子体射流发生器参数优化方法、装置及存储介质。

背景技术

等离子射流广泛应用于材料表面改性、生物医学等各领域，射流本身可处理的面积大小会对应用的效果产生较大影响。

通常情况下，射流发生器的使用者会通过试验得到在所产生射流质量最佳状态下，发生器的最佳输入参数，从而使得应用射流时处理效果达到最佳。然而，在实际应用中，寻找最佳参数的预实验阶段与实际应用处理阶段并非在同一日期，即在温度等环境因素上存在差异。若射流发生器仍采用固定的发生器输入参数，在不同的环境温度下，产生的等离子体射流质量、可处理面积将均存在较大差异。例如，在10℃和30℃温度下，同一射流发生器使用相同的参数产生的等离子体射流，长度、宽度的变化很大，射流的可处理面积相差可达50％。四季环境温度变化大，若射流发生器仍采用固定的输入参数来产生等离子体射流，存在装置利用率低、效率低等问题。

发明内容

有鉴于现有技术的上述缺陷，本发明的目的就是提供一种等离子体射流发生器参数优化方法、装置及存储介质，通过考虑环境温度对参数的影响，以使得射流可处理面积在当前环境温度条件下达到最优。

本发明的目的之一是通过这样的技术方案实现的，一种等离子体射流发生器参数优化方法，所述方法包括：

对获取到的当前环境温度进行预处理；

根据预处理之后的当前环境温度通过预先建立的射流质量预测模型确定优化输入参数。

可选的，对获取到的当前环境温度进行预处理之前，所述方法还包括：

根据环境温度以及预设变量建立射流质量预测模型。

可选的，根据环境温度以及预设变量建立射流质量预测模型，包括：

基于等离子体射流发生器的射流面积构建目标函数；

根据环境温度以及预设变量确定约束条件；

基于所述目标函数以及约束条件构建训练集；

根据所述训练集进行模型训练以获得射流质量预测模型。

可选的，基于所述目标函数以及约束条件构建训练集，包括：根据目标函数和约束条件的因素组合构建训练集。

可选的，所述根据所述训练集进行模型训练以获得射流质量预测模型，包括：

对训练集中的数据样本进行归一化处理；

采用支持向量回归(SVR)模型根据归一化处理后的训练集进行模型训练以获得射流质量预测模型。

可选的，所述对获取到的当前环境温度进行预处理，包括：

对获取到的当前环境温度进行归一化处理。

可选的，根据预处理之后的当前环境温度通过预先建立的射流质量预测模型确定优化输入参数，包括：

根据预处理之后的当前环境温度通过预先建立的射流质量预测模型通过遗传算法进行迭代求解以确定模型输入参数。

可选的，根据预处理之后的当前环境温度通过预先建立的射流质量预测模型确定优化输入参数，还包括：