[发明专利]隔热结构及制备方法、加热不燃烧装置

权利要求书

1.一种隔热结构(1)，其特征在于，包括管状的内层(103)、以及环绕所述内层(103)的外层(101)，所述外层(101)的红外发射率小于所述内层(103)的红外发射率。

2.根据权利要求1所述的隔热结构(1)，其特征在于，所述内层(103)与所述外层(101)之间留有间隙，所述隔热结构(1)还包括位于所述内层(103)与所述外层(101)之间的本体层(102)。

3.根据权利要求2所述的隔热结构(1)，其特征在于，所述本体层(102)的材料包括：玻璃、陶瓷、塑料和金属中的至少一项。

4.根据权利要求1所述的隔热结构(1)，其特征在于，所述内层(103)的红外发射率不小于0.9；所述外层(101)的红外发射率不大于0.6。

5.根据权利要求1所述的隔热结构(1)，其特征在于，所述内层(103)的材料包括：尖晶石、硅氧化物、金属氧化物、氮化物中的至少一项。

6.根据权利要求1所述的隔热结构(1)，其特征在于，所述外层(101)的材料包括：铜、铝、金、银、钛、锌中的至少一项。

7.根据权利要求1所述的隔热结构(1)，其特征在于，所述本体层(102)的厚度在0.01毫米至5毫米之间，所述内层(103)的厚度在5纳米至1000纳米之间，所述外层(101)的厚度在5纳米至1000纳米之间。

8.一种隔热结构(1)的制备方法，其特征在于，包括：

提供平整的本体层(102)，所述本体层(102)具有相对的第一表面和第二表面；

在所述第一表面上形成内层(103)；

在所述第二表面上形成外层(101)，所述外层(101)的红外发射率小于所述内层(103)的红外发射率；

将所述本体层(102)制成稳定的管状结构。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，形成所述内层(103)的工艺和/或形成所述外层(101)的工艺包括：气相沉积、磁控溅射、热氧化、等离子气相沉积、化学镀、电镀、真空镀、涂布、印刷中的任一项。

10.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，将所述本体层(102)制成稳定的管状结构，包括：采用弯绕、拼接或贴合工艺将所述本体层(102)制成稳定的管状结构。

11.一种加热不燃烧装置，其特征在于，包括发热元件(2)、以及根据权利要求1-7任意一项所述的隔热结构(1)，所述内层(103)的内表面与所述发热元件(2)之间具有环绕所述发热元件(2)的容纳空间，所述容纳空间用于容纳发烟材料。

12.根据权利要求11所述的加热不燃烧装置，其特征在于，所述发热元件(2)呈针状、片状或筒状。