[发明专利]一种高维量子纠缠光源光学系统有效
| 申请号： | 202010503153.3 | 申请日： | 2020-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN111624830B | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 王漱明;李林;王振林;祝世宁 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | G02F1/35 | 分类号： | G02F1/35;G02F1/355;G02B3/00;G02B1/00;G02B27/00;G02B1/02;H04L9/08;H04B10/70 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 | 代理人： | 逯长明;许伟群 |
| 地址： | 210023 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 量子 纠缠 光源 光学系统 | ||
1.一种高维量子纠缠光源光学系统，其特征在于，包括：
泵浦激光源(1)；
微观透镜阵列(2)，位于所述泵浦激光源(1)的出光侧；
非线性晶体(3)，贴附在所述微观透镜阵列(2)远离所述泵浦激光源(1)的一侧；
所述微观透镜阵列(2)和所述非线性晶体(3)相互平行；所述泵浦激光源(1)为连续泵浦激光源；所述泵浦激光源(1)出射光的相干长度大于所述微观透镜阵列(2)的对角线长度。
2.根据权利要求1所述的高维量子纠缠光源光学系统，其特征在于，还包括半波片(4)，所述半波片(4)位于所述泵浦激光源(1)与所述微观透镜阵列(2)之间，且所述泵浦激光源(1)的出射光垂直入射在所述半波片(4)上；所述半波片(4)分别与所述微观透镜阵列(2)和所述非线性晶体(3)平行。
3.根据权利要求2所述的高维量子纠缠光源光学系统，其特征在于，还包括整形透镜(5)，所述整形透镜(5)位于所述半波片(4)和所述微观透镜阵列(2)之间。
4.根据权利要求2所述的高维量子纠缠光源光学系统，其特征在于，所述微观透镜阵列(2)包括呈m×n阵列排布的多个微观透镜(21),其中m和n的乘积是大于1的正整数。
5.根据权利要求4所述的高维量子纠缠光源光学系统，其特征在于，所述微观透镜(21)为圆形,每个所述微观透镜(21)的直径均相同，每个所述微观透镜(21)的焦距均相同。
6.根据权利要求5所述的高维量子纠缠光源光学系统，其特征在于，每个所述微观透镜(21)包括多个呈阵列排布的微观结构(211)。
7.根据权利要求6所述的高维量子纠缠光源光学系统，其特征在于，所述微观透镜(21)为超构透镜。
8.根据权利要求6所述的高维量子纠缠光源光学系统，其特征在于，所述微观结构(211)为纳米圆柱或纳米方柱。
9.根据权利要求6所述的高维量子纠缠光源光学系统，其特征在于，每个所述微观透镜(21)的相位分布函数满足如下关系式：
其中，i是所述微观透镜的编号；
λ是所述泵浦激光源出射光的波长；
fi是第i微观透镜的预设焦距；
Ri,j是所述第i微观透镜上任意一点j到该所述第i微观透镜几何中心点的距离；
j是所述第i微观透镜上任意一点的编号，j的取值是任意自然数；
φi是所述第i微观透镜的初始设定相位；
是所述第i微观透镜的相位分布函数。
10.根据权利要求6所述的高维量子纠缠光源光学系统，其特征在于，所述微观透镜(21)的材料是氮化镓晶体、二氧化钛晶体和氮化硅晶体中的一种；
所述非线性晶体(3)为BBO晶体。
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