[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括衬底基板以及形成于所述衬底基板之上的像素界定层，所述像素界定层限制出多个像素开口区，所述像素界定层包括设置于所述衬底基板之上的第一界定层以及叠加设置于所述第一界定层的第二界定层，所述第二界定层在所述衬底基板的正投影覆盖所述第一界定层在所述衬底基板的正投影，所述第二界定层与所述第一界定层的连接处形成围绕所述第一界定层四周的凸台。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二界定层包括侧壁、顶壁以及底壁，所述底壁形成于所述第一界定层上，所述底壁的周边形成所述凸台。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凸台伸出所述第一界定层的长度大于0.2um。

4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述侧壁与所述底壁之间的夹角不大于45度。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，还包括设置于所述衬底基板之上的多个阳极，相邻阳极之间互相断开，相邻阳极之间形成有槽体，所述槽体中设置有所述像素界定层，相邻所述像素界定层之间形成的像素开口区将所述阳极暴露。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述阳极包括设置于所述衬底基板之上的接触电极以及设置于所述接触电极之上的反射电极。

7.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述阳极之上设置有保护层。

8.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述阳极与所述衬底基板之间设置有绝缘层。

9.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述像素开口区之上形成有像素单元，所述像素单元包括电荷生成层，所述电荷生成层远离所述衬底基板一侧的表面不高于所述第一界定层远离所述衬底基板一侧的表面。

10.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，所述电荷生成层包括叠加设置的第一生成层以及第二生成层，所述第一生成层位于靠近所述衬底基板的一侧，所述第二生成层位于远离所述衬底基板的一侧，所述第二生成层远离所述衬底基板一侧的表面不高于所述第一界定层远离所述衬底基板一侧的表面。

11.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述像素开口区之上形成有像素单元，所述像素单元包括空穴注入层，所述空穴注入层远离所述衬底基板一侧的表面不高于所述第一界定层远离所述衬底基板一侧的表面。

12.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-11任一所述的显示基板。

13.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

在衬底基板之上形成第一像素界定材料层；

在所述第一像素界定材料层之上形成第二像素界定材料层，所述第一像素界定材料层的刻蚀速率大于所述第二像素界定材料层的刻蚀速率；

通过同一刻蚀工艺，使所述第一像素界定材料层和所述第二像素界定材料层分别形成第一界定层和第二界定层，所述第二界定层在所述衬底基板的正投影覆盖所述第一界定层在所述衬底基板的正投影，所述第二界定层与所述第一界定层的连接处形成围绕所述第一界定层四周的凸台。