[发明专利]制造涂覆交织基底的方法，涂覆物品以及可植入医疗装置

说明书

本发明涉及制造涂覆交织基底的方法，涂覆物品以及可植入医疗装置。提供了一种用于在化学沉积反应器中制造涂覆物品(10)的方法以及一种通过所述方法产生的涂覆物品。所述方法包括在所述物品(10)的第一表面上沉积第一涂层和/或在所述物品的第二表面上沉积第二涂层。

技术领域

本发明总体上涉及通过化学沉积方法制造涂覆物品。特别地，本发明涉及通过气相中化学沉积方法在交织基底上进行涂层区域特异性沉积。

背景技术

化学沉积方法，诸如化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)，在本领域中被广泛描述。通常被认为是CVD工艺的子类的ALD技术已证明是用于在三维基底结构上制造高品质保形涂层的有效工具。

ALD基于交替的自饱和表面反应，其中在非反应性(惰性)气态载体中作为分子化合物或元素提供的不同反应物(前体)依次脉冲进入容纳基底的反应空间中。反应物沉积后通过惰性气体吹扫基底。常规ALD循环(沉积循环)以两个半反应(脉冲第一前体–吹扫；脉冲第二前体–吹扫)进行，从而以自限(自饱和)方式形成材料层(沉积层)，通常厚为0.05-0.2nm。为了获得具有预定厚度的膜，循环根据需要重复多次。针对每种前体的典型基底暴露时间为0.01-1秒。常见的前体包括金属氧化物、单质金属、金属氮化物和金属硫化物。

因为分布在气态介质中的前体分子驻留在所有形成保形涂层的可进入(非掩盖)表面上，鉴于在复杂的多元件3D结构或脚手架结构上产生涂层的方法的能力，ALD提供了显著的益处。

然而，当应用于形成区域特异性涂层时，相同的功能构成了显著缺陷。例如，传统化学沉积方法不允许在交织结构上产生区域特异性(选择性)涂层。然而，在医疗领域中存在对于此类涂层的需要，例如，其中将希望获得对于内表面和外表面具有不同材料特性的可植入血管内支架(作为可膨胀网格结构提供)。传统ALD方法将固有地产生遍及此类物品的所有表面的保形涂层；因此阻止制造商生产具有期望特性的医疗装置。

在这方面，鉴于解决与在制造具有区域特异性涂层的三维交织结构中应用所述方法相关的挑战，仍然希望在基于蒸气沉积的方法的领域中，诸如原子层沉积技术的更新。

发明内容

本发明的目的是解决或至少缓解由相关技术的局限和缺点引起的每个问题。所述目的是通过一种用于制造涂覆的交织基底的方法以及通过所述方法产生的涂覆的交织物品的各种实施方式来实现的。

因此，在本发明的一个方面，一种用于在化学沉积反应器中制造涂覆的交织基底的方法。

在实施方式中，提供了一种用于在化学沉积反应器中制造涂覆的交织基底的方法，所述方法包括：

获得化学沉积反应器，所述化学沉积反应器具有由反应室形成的并且被配置成至少部分地接收由流体可渗透材料制成的基底固持器的反应空间，在所述基底固持器上安装有交织基底，使得所述基底的第一表面面向所述反应空间，并且将所述基底的第二表面抵靠所述基底固持器放置，以及在若干沉积循环中，在所述第一表面上形成第一涂层和在所述第二表面上形成第二涂层，其中，每个沉积循环包括用流体流将前体化学物递送到所述反应空间中，使得将至少一种前体化学物递送到所述反应空间中经由所述流体可渗透材料发生。

在实施方式中，所述沉积循环包括将至少两种预定前体化学物递送到所述反应空间中，从而遍及所述基底的所述第一表面和/或遍及所述基底的所述第二表面产生沉积层。

在实施方式中，将第一预定前体化学物经由所述反应室递送到所述反应空间中并且将第二预定前体化学物经由所述流体可渗透基底固持器递送到所述反应空间中。

在实施方式中，将所述前体化学物以顺序、暂时分开的脉冲，任选地与用惰性流体吹扫所述反应空间交替递送到所述反应空间中。