[发明专利]具有核壳结构的i-MAX相材料及其制备方法有效
申请号: | 202010506281.3 | 申请日: | 2020-06-05 |
公开(公告)号: | CN112225221B | 公开(公告)日: | 2023-02-10 |
发明(设计)人: | 黄庆;黄颖;李友兵;陈科;姚美意 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | C01B32/90 | 分类号: | C01B32/90;C01B32/949 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 结构 max 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种具有核壳结构的i-MAX相材料,其特征在于所述壳层是由带介孔的立方相过渡金属碳化物;所述的核内结构为i-MAX相;所述的核与壳的质量比为:2:1-10:1;带介孔的立方相过渡金属碳化物的结构通式为:MC1-x,x=0~1,其中过渡金属M为W或Y中的一种或两种元素,为立方结构的缺碳不定型相。
2.根据权利要求1所述的具有核壳结构的i-MAX相材料,其特征在于带介孔的立方相过渡金属碳化物的介孔的尺寸在2~10nm,介孔数量为:50~200。
3.根据权利要求1所述的具有核壳结构的i-MAX相材料,其特征是所述的i-MAX相为:(W2/3Y1/3)2AlC、(W1/3Y2/3)2AlC、(W1/2Y1/2)2AlC中的一种。
4.一种制备根据权利要求1~3中任一项所述的具有核壳结构的i-MAX相材料的方法,其特征是该方法的具体步骤为:
a.选用通式为(M1M2)2AC的层状结构陶瓷作为前驱体材料,所述层状结构包括M-C层和AC原子层,其中M为过渡金属W,Y中的两种元素组合,A原子层由Al元素组合;
b.选择CuCl2盐为刻蚀剂,将步骤a所述的前驱体被选择性刻蚀,刻蚀条件为:在管式炉的氩气气氛中进行,刻蚀温度在CuCl2熔点以上沸点以下,升温和降温速率均为4℃/min,保温时间为5~24h;所述的CuCl2刻蚀剂与前驱体材料的摩尔比为1.5~3;
c.清洗、过滤,以除去腐蚀后的杂相及腐蚀残留物,然后烘干。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于所述的刻蚀温度为500℃~800℃。
6.根据权利要求4所述的方法,其特征是所述的前驱体包括(W2/3Y1/3)2AlC、(W1/3Y2/3)2AlC、(W1/2Y1/2)2AlC中的一种。
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