[发明专利]一种图案具有层次立体效果的釉面砖的生产工艺有效
申请号: | 202010511730.3 | 申请日: | 2020-06-08 |
公开(公告)号: | CN111620668B | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 叶德林;刘世明;陈然;简润桐 | 申请(专利权)人: | 广东萨米特陶瓷有限公司;新明珠集团股份有限公司 |
主分类号: | C04B33/13 | 分类号: | C04B33/13;C04B33/24;C04B41/89 |
代理公司: | 广州圣理华知识产权代理有限公司 44302 | 代理人: | 董觉非;张凯 |
地址: | 526124 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 图案 具有 层次 立体 效果 釉面砖 生产工艺 | ||
1.一种图案具有层次立体效果的釉面砖的生产工艺,其特征在于,包括以下步骤:
步骤(1):基础料和辅料的配制,制备基础料,辅料按照设定的体积收缩率配制;
步骤(2):成型,先进行基础料布料,形成基础层,再按照纹理设计进行辅料布料,形成辅料纹理层,再压制形成坯体;
步骤(3):烘干、喷釉,在成型且烘干后的坯体上喷涂一层底釉;
步骤(4):喷墨图案花色层,按照不同的表面图案装饰效果,在步骤(3)形成的底釉上面喷墨花色图案,形成图案花色层;
步骤(5):施加表面保护釉,在步骤(4)喷墨了花色图案的砖坯表面施加保护釉;
步骤(6):烧成、抛光,将步骤(5)中施加了表面保护釉后的砖坯入窑烧成,砖坯出窑后进行研磨抛光,烧成时间为1~3小时,烧成温度为1150℃~1200℃,
所述步骤(1)中,在1150℃~1200℃的温度烧成时,所述辅料纹理层的体积收缩小于所述基础层的体积收缩,设定体积收缩率是指使所述辅料纹理层的体积收缩率与所述基础层的体积收缩率的差值为2%~5%,
所述体积收缩包括横向收缩和纵向收缩,
所述辅料包括体积收缩小的原料,所述体积收缩小的原料为硅灰石、叶腊石或高钙熔块,且所述体积收缩小的原料占所述辅料总体的重量比为10%~50%,
所述步骤(2)中,所述辅料纹理层的布料厚度为2mm~5mm,
所述步骤(3)中,所述底釉的釉面厚度小于15μm。
2.根据权利要求1所述的生产工艺,其特征在于,所述辅料的配方为:
按照重量百分比,高钙熔块45%,球土20%,钠长石25%,钾长石8%,方解石2%。
3.根据权利要求1所述的生产工艺,其特征在于,所述辅料的配方为:
按照重量百分比,硅灰石15%,球土30%,钾长石13%,钠长石40%,透辉石2%。
4.根据权利要求1所述的生产工艺,其特征在于,所述辅料的配方为:
按照重量百分比,叶腊石20%,球土25%,钾长石14%,钠长石35%,透辉石3%,氧化铝3%。
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