[发明专利]一种PECVD真空泵管道吹扫装置在审
申请号: | 202010513928.5 | 申请日: | 2020-06-08 |
公开(公告)号: | CN111676467A | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 顾明强 | 申请(专利权)人: | 江苏润阳光伏科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/44;C23C16/40 |
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地址: | 224000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 pecvd 真空泵 管道 装置 | ||
本发明提供一种PECVD真空泵管道吹扫装置,其特征在于:包括变径三通、卡箍和封板,所述变径三通的两端开口口径尺寸不同,所述卡箍分别将封板卡扣在所述变径三通的两端开口上;所述变径三通侧壁上的开口通过阀门与进气软管连接。使用该吹扫装置可直接外接到管道,对管道内的沉积进行吹扫,给公司节约巨大成本;而且该吹扫装置可适配于多种规格的管道,通用、快捷性强。
技术领域
本发明属于太阳能光伏行业领域,尤其涉及一种PECVD真空泵管道吹扫装置。
背景技术
随着新能源技术的发展,晶硅太阳能电池发展迅猛,晶硅太阳能电池是一种可以将太阳光能转化成为电能的电子元器件。晶体硅类太阳能电池的制备一般经过制绒、扩散、镀膜、丝网印刷、烧结等工序。其中镀膜通常采用PECVD技术生成。PECVD(Plasma EnhancedChemical Vapor Deposition)又称等离子体增强化学气相沉积法,技术原理是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子化学活性很强,很容易发生反应,在硅片上沉积出所期望的薄膜。
PECVD镀膜会用到三甲基铝,三甲基铝经过高温、高压、高频电离之后形成气态沉积在电池片表面,部分气态和粉状氧化铝会随着排气管道被真空泵排出车间,在室外集中处理,然而有部分氧化铝会沉积到管壁或者堵塞真空泵,真空泵属于精密设备,一旦堵塞需立即停机拆卸送设备厂家维修,造成含停机产能损失和真空泵维修费用的经济损失。
发明内容
鉴于以上,本发明提供一种PECVD真空泵管道吹扫装置,使用该吹扫装置可直接外接到管道,对管道内的沉积进行吹扫,给公司节约巨大成本;而且该吹扫装置可适配于多种规格的管道,通用、快捷性强,具体技术方案如下。
一种PECVD真空泵管道吹扫装置,其特征在于:包括变径三通、卡箍和封板,所述变径三通的两端开口口径尺寸不同,所述卡箍分别将封板卡扣在所述变径三通的两端开口上;所述变径三通侧壁上的开口通过阀门与进气软管连接。
本发明附加的方面和优点将在下面的描述中进一步给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。
附图说明
图1为本发明PECVD真空泵管道吹扫装置的结构分解示意图;
其中,1为变径三通,2为卡箍,3为封板,4为阀门,5为进气软管。
具体实施方式
以下描述用于揭露本发明以使本领域技术人员能够实现本发明。以下描述中的优选实施例只作为举例,本领域技术人员可以想到其他显而易见的变型。在以下描述中界定的本发明的基本原理可以应用于其他实施方案、变形方案、改进方案、等同方案以及没有背离本发明的精神和范围的其他技术方案。
在本发明的描述中,需要说明的是,指示的方位或位置关系的术语为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
图1所示,本发明PECVD真空泵管道吹扫装置的一种优选实施例示意图。一种PECVD真空泵管道吹扫装置,包括变径三通1、卡箍2和封板3,变径三通1的两端开口口径尺寸不同,卡箍2分别将封板3卡扣在变径三通1的两端开口上;变径三通1侧壁上的开口通过阀门4与进气软管5连接。
在其他实施例中,变径三通1可以根据需要选择更换为变径四通或变径五通。使用本发明PECVD真空泵管道吹扫装置时,根据所堵塞管道接口尺寸,选择变径三通1上对应的开口,打开卡箍2拆除封板3,安装到堵塞管道接口处,进气软管5内通入高压氮气,打开阀门4,高压氮气直接吹扫到管道内部,将管道与真空泵内部的氧化铝沉积快速、安全的吹扫干净,且不需要停机操作,极大地节省了清扫、维修时间和成本。
本领域的技术人员应理解,尽管参照本发明的示意性实施例对本发明的具体实施方式进行了详细的描述,但是本领域技术人员可以设计出多种其他的改进和实施例,这些改进和实施例将落在本发明原理的精神和范围之内。
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