[发明专利]一种保护涂层及其制备方法有效
申请号: | 202010520210.9 | 申请日: | 2020-06-09 |
公开(公告)号: | CN111519168B | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 宗坚 | 申请(专利权)人: | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/515;C08F220/24;C08F220/06;C08F120/24;C09D133/16 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 叶子浓 |
地址: | 214000 江苏省无锡市无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 保护 涂层 及其 制备 方法 | ||
本发明的具体实施方式提供一种保护涂层,所述保护涂层为含有硅结构单元、以及仲胺结构单元或伯胺结构单元的单体A、包含羧端基结构的单体B以及氟碳单体C在基材表面等离子聚合形成的涂层,该保护涂层与基材结合紧密,具有优异的耐磨性。
技术领域
本发明属于等离子化学领域,具体涉及一种等离子体聚合保护涂层及其制备方法。
背景技术
有机聚合物涂层可以有效的对不同材料表面进行保护,例如,电子电气元器件、金属等在水气、液体的侵蚀下极易造成腐蚀、短路等现象,聚合物防护涂层可以阻挡液体的侵蚀,从而提高电子产品、金属产品等在潮湿或者水下的稳定性和可靠性。目前,气相沉积法在基材表面制备聚合物防护涂层是主流方法,该方法经济适用、易于操作等特点,尤其是等离子体化学气相沉积,利用等离子体活化反应单体气体并在基材表面进行沉积,这种方法适用于各种基材,且沉积的聚合物防护涂层均匀,涂层制备温度低,涂层厚度薄、应力小,对基材表面几乎没有损伤和基材性能几乎没有影响。在等离子体制备聚合物防护涂层中,通常以氟代化合物为单体在基材表面制备获得氟碳树脂防护涂层,但是氟碳树脂的强度相对较低,在外力的作用下,容易变形,容易造成该防护涂层失效,比如前的电子产品,需要对各种电子元器件进行组装,故需要被触摸和操作,以氟碳树脂作为防护涂层容易遭到破坏,从而导致其防护能力的降低甚至失效。因此,如何通过分子结构的设计和调控,来提高分子间的结合力和硬度,从而进一步提高防护涂层的耐磨性,是如今防护涂层改进的方向和亟需解决的难点。
发明内容
为解决防护涂层与基材之间结合力差、耐磨性不好的问题,本发明的具体实施方式提供一种保护涂层及其制备方法,具体方案如下:
一种保护涂层,所述保护涂层以单体A、单体B和单体C为原料,通过等离子体聚合沉积于基材的表面形成;
其中,单体A同时包含式(Ⅰ)的硅结构单元,以及式(Ⅱ)或式(Ⅲ)的胺基结构单元中的至少一个;
单体B包含羧端基结构单元;
单体C选自于氟代烃、氟代丙烯酸酯或氟代硅烷中的一种或多种。
可选的,所述单体A的结构如式(Ⅳ)所示,
其中,X为连接键、氧原子或羰基,R1为C1-C10的亚烃基或C1-C10的卤原子取代亚烃基,R2、R3和R4分别独立的选自于氢原子、卤素原子、C1-C10的烃基、C1-C10的卤原子取代烃基、C1-C10的烃氧基、C1-C10的卤原子取代烃氧基、C1-C10的烃酰氧基或C1-C10的卤原子取代烃酰氧基。
可选的,X为连接键,R1为C1-C10的亚烷基,R2、R3和R4分别独立的为C1-C10的烃氧基。
可选的,R1为亚乙基、亚丙基或亚丁基,R2、R3和R4分别独立的为甲氧基、乙氧基或丙氧基。
可选的,所述单体B的结构如式(Ⅴ)所示,
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的