[发明专利]一种高Ni纳米晶NiTi形状记忆合金型材及其制备方法有效
| 申请号： | 202010521376.2 | 申请日： | 2020-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN111575534B | 公开（公告）日： | 2021-07-09 |
| 发明（设计）人： | 郝世杰;黄诗涵;孙震;崔立山;田昀;黎昱 | 申请（专利权）人： | 中国石油大学(北京) |
| 主分类号： | C22C19/03 | 分类号： | C22C19/03;C22C1/02;C22F1/10;C21D9/52 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 姚亮;张德斌 |
| 地址： | 102249*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 ni 纳米 niti 形状 记忆 合金 及其 制备 方法 | ||
1.一种高Ni纳米晶NiTi形状记忆合金型材，其中，所述高Ni纳米晶NiTi形状记忆合金的化学式为NiaTi100-a，51.2≤a≤55；
其是通过以下步骤制备得到的：
使Ni、Ti原材料依次经过熔炼、均匀化退火、热锻成型、塑性加工处理，制得型材初坯；
对所述型材初坯进行高温固溶处理、低温时效处理、冷变形处理、晶化退火处理，得到所述高Ni纳米晶NiTi形状记忆合金型材；
所述高温固溶处理的温度为750℃-1200℃，保温时间为10分钟-10小时；
所述低温时效处理的温度为300℃-700℃，保温时间为1分钟-10小时。
2.根据权利要求1所述的高Ni纳米晶NiTi形状记忆合金型材，其中，所述高Ni纳米晶NiTi形状记忆合金由均匀的NiTi纳米晶组成。
3.根据权利要求2所述的高Ni纳米晶NiTi形状记忆合金型材，其中，所述纳米晶的晶粒平均直径为5-50nm。
4.根据权利要求2或3所述的高Ni纳米晶NiTi形状记忆合金型材，其中，所述纳米晶的晶界富Ni而晶内贫Ni。
5.根据权利要求1-3任一项所述的高Ni纳米晶NiTi形状记忆合金型材，其中，该型材为丝材、板材或棒材。
6.根据权利要求4所述的高Ni纳米晶NiTi形状记忆合金型材，其中，该型材为丝材、板材或棒材。
7.权利要求1-6任一项所述的高Ni纳米晶NiTi形状记忆合金型材的制备方法，其包括如下步骤：
使Ni、Ti原材料依次经过熔炼、均匀化退火、热锻成型、塑性加工处理，制得型材初坯；
对所述型材初坯进行高温固溶处理、低温时效处理、冷变形处理、晶化退火处理，得到所述高Ni纳米晶NiTi形状记忆合金型材；
所述高温固溶处理的温度为750℃-1200℃，保温时间为10分钟-10小时；
所述低温时效处理的温度为300℃-700℃，保温时间为1分钟-10小时。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其中，所述高温固溶处理的温度为800-1000℃，保温时间为10分钟-30分钟。
9.根据权利要求7或8所述的制备方法，其中，所述低温时效处理的温度为450℃-550℃，保温时间为5分钟-20分钟。
10.根据权利要求7-8任一项所述的制备方法，其中，所述冷变形处理的变形量为40％-200％。
11.根据权利要求9所述的制备方法，其中，所述冷变形处理的变形量为40％-200％。
12.根据权利要求7所述的制备方法，其中，所述晶化退火处理的温度为300℃-600℃，处理时间为1分钟-5小时。
13.根据权利要求12所述的制备方法，其中，所述晶化退火处理的温度为350℃-450℃，处理时间为5分钟-20分钟。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国石油大学(北京)，未经中国石油大学(北京)许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010521376.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：超疏水水性涂料及其制备方法
- 下一篇：生物质燃料制粒装置
