[发明专利]一种多光谱透明微波吸收材料及其制备方法

权利要求书

1.一种多光谱透明微波吸收材料，其特征在于，包括光学窗口、形成在所述光学窗口上表面的表层周期金属网栅和形成在所属光学窗口下表面的底层周期金属网栅；

所述表层周期金属网栅和/或所述底层周期金属网栅的周期结构单元为正四边形或正六边形；

当所述周期结构单元为正四边形时，所述周期结构单元的边长为1-2mm，线宽为0.05-0.1mm；

当所述周期结构单元为正六边形时，所述周期结构单元的边长为4-12mm，线宽为0.05-0.1mm；

所述光学窗口的厚度为3-5mm；

所述表层金属网栅的厚度为0.05mm；

所述底层金属网栅的厚度为0.05mm；

所述多光谱透明微波吸收材料具有如下一个或多个性质：

在可见光及红外频谱的透光率大于80％；

在微波8.8-18GHz频段内存在吸收峰，且反射率为-34至-5dB。

2.根据权利要求1所述的材料，其特征在于，

所述表层周期金属网栅和/或所述底层周期金属网栅的材料为铜。

3.根据权利要求1所述的材料，其特征在于，

所述光学窗口的材料选自锗、石英、氟化镁、氟化钡、氟化钙、硫化锌、硒化锌、金红石、蓝宝石中的任一种或多种。

4.一种权利要求1至3任一项所述材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)采用光刻工艺在光学窗口上表面镀制表层周期金属网栅的步骤；和

(2)采用光刻工艺在光学窗口下表面镀制底层周期金属网栅的步骤。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，

所述步骤(1)按照如下方法进行：

在光学窗口上表面涂覆光敏胶，使用依据表层周期金属网栅图案预制的掩膜版进行图案曝光，然后进行显影，再采用真空磁控溅射镀制铜，得到所述表层周期金属网栅；和/或

所述步骤(2)按照如下方法进行：

在光学窗口下表面涂覆光敏胶，使用依据底层周期金属网栅图案预制的掩膜版进行图案曝光，然后进行显影，再采用真空磁控溅射镀制铜，得到所述底层周期金属网栅。

6.根据权利要求4或5所述的制备方法，其特征在于，

在步骤(1)之前还包括对光学窗口进行预处理的步骤；

所述预处理按照如下方法进行：

采用六甲基二硅氮烷对光学窗口玻璃上表面和下表面进行预处理，温度为110-120℃，处理时间10-20min。