[发明专利]一种适用于神经形态计算的人工突触器件有效
申请号: | 202010524942.5 | 申请日: | 2020-06-10 |
公开(公告)号: | CN111640865B | 公开(公告)日: | 2023-06-20 |
发明(设计)人: | 罗振;马超;赵乐天;殷月伟;金西;李晓光 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | H10N70/20 | 分类号: | H10N70/20;G06N3/063 |
代理公司: | 北京凯特来知识产权代理有限公司 11260 | 代理人: | 郑立明;付久春 |
地址: | 230026 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 适用于 神经 形态 计算 人工 突触 器件 | ||
1.一种适用于神经形态计算的人工突触器件,其特征在于,包括:
半导体底电极、铁电势垒层和导电顶电极;其中,
所述半导体底电极上面设有铁电势垒层,所述铁电势垒层的厚度为1~5nm,所述铁电势垒层的面外生长方向与铁电自发极化方向不共线;
所述铁电势垒层上面设有导电顶电极,外加电场方向垂直于半导体底电极和导电顶电极的表面,与铁电势垒层的面外生长方向共线与铁电自发极化方向不共线。
2.根据权利要求1所述的适用于神经形态计算的人工突触器件,其特征在于,所述半导体底电极采用能在上面外延生长铁电势垒层的半导体电极;
所述铁电势垒层采用以下中的任一项:
A)(111)取向生长的PbZrxTi1-xO3层或(110)取向生长的PbZrxTi1-xO3层,其中x取0~0.52,包括端点值;
B)(111)取向生长的Ba1-xSrxTiO3层或(110)取向生长的Ba1-xSrxTiO3层,其中x取0~0.4,包括端点值;
C)(100)取向生长的BiFeO3层或(110)取向生长的BiFeO3层。
3.根据权利要求2所述的适用于神经形态计算的人工突触器件,其特征在于,所述半导体底电极采用掺Nb的SrTiO3电极。
4.根据权利要求1至3任一项所述的适用于神经形态计算的人工突触器件,其特征在于,所述导电顶电极采用Au电极、Pt电极、W电极、Cu电极、Ag电极、ITO电极、La1-xSrxMnO3电极中的任一种;所述La1-xSrxMnO3电极中x取0.2~0.5,不包括端点值。
5.根据权利要求1至3任一项所述的适用于神经形态计算的人工突触器件,其特征在于,所述半导体底电极与导电顶电极能施加的操作脉冲电压小于等于10V时,脉宽范围大于等于1ns。
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