[发明专利]发声装置有效
申请号: | 202010525370.2 | 申请日: | 2020-06-10 |
公开(公告)号: | CN112203175B | 公开(公告)日: | 2022-06-28 |
发明(设计)人: | 梁振宇;陈磊;马丁·乔治·林 | 申请(专利权)人: | 知微电子有限公司 |
主分类号: | H04R1/02 | 分类号: | H04R1/02;H04R7/02;H04R19/02 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 王天尧;汤在彦 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发声 装置 | ||
1.一种发声装置,其特征在于,包括:
至少一空气脉冲产生元件,每个所述至少一空气脉冲产生元件包括:
一振膜;
一第一音腔,其中一腔体压力存在于所述第一音腔中;以及
至少一开口,连接在所述第一音腔与所述发声装置周围的一环境之间;
其中所述振膜被致动以改变所述第一音腔的所述腔体压力以产生多个空气脉冲,所述多个空气脉冲通过所述至少一开口而传播,所述多个空气脉冲在声压位准方面产生一非零偏移,且所述非零偏移是相对于所述发声装置外的一环境压力的一压力值的一偏差;
其中所述至少一开口包括一第一开口,所述第一开口的直径或宽度小于或等于所述第一开口的一边界层的一边界层厚度的5倍。
2.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述至少一开口的其中一个对应所述振膜的中心。
3.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述至少一开口的其中一个对应所述振膜的一区域,且所述振膜的所述区域具有大于一阈值的位移量。
4.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,每个所述空气脉冲具有一脉冲周期,所述振膜的一最大位移位置被定义为所述振膜在所述脉冲周期的其中一个中以一最大位移量移动的位置,且所述至少一开口的其中一个对应所述振膜的所述最大位移位置。
5.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,在俯视上,包含所有所述至少一开口的一最小区域的中心对应所述振膜的中心。
6.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,在俯视上,包含所有所述至少一开口的一最小区域对应所述振膜的一区域,且所述振膜的所述区域具有大于一阈值的位移量。
7.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,每个所述空气脉冲具有一脉冲周期,所述振膜的一最大位移位置被定义为所述振膜在所述脉冲周期的其中一个中以一最大位移量移动的位置,且包含所有所述至少一开口的一最小区域的中心在俯视上对应所述振膜的所述最大位移位置。
8.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述振膜具有所述至少一开口。
9.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述至少一开口包括一通孔。
10.如权利要求9所述的发声装置,其特征在于,所述通孔具有一直径,所述直径小于或等于所述通孔的一边界层的一边界层厚度的5倍。
11.如权利要求10所述的发声装置,其特征在于,所述通孔的面积的至少一半在所述通孔的所述边界层内。
12.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,流通过所述至少一开口的一气流的平均速度小于所述气流的自由气流速度的0.3倍。
13.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述至少一开口包括一狭缝。
14.如权利要求13所述的发声装置,其特征在于,所述狭缝的宽度为0.5微米至5微米。
15.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述至少一开口包括多个开口。
16.如权利要求15所述的发声装置,其特征在于,所述振膜具有所述多个开口,所述多个开口的其中一个为一通孔,且所述多个开口的其中另一个为一狭缝。
17.如权利要求16所述的发声装置,其特征在于,所述狭缝连接于所述振膜的一角落。
18.如权利要求16所述的发声装置,其特征在于,所述狭缝连接于所述通孔。
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