[发明专利]一种具有化学机械抛光单元的基板减薄设备

权利要求书

1.一种具有化学机械抛光单元的基板减薄设备，其特征在于，包括：

设备前端模块，用于实现基板的进出，所述设备前端模块设置在所述基板减薄设备的前端；

磨削模块，用于对所述基板进行磨削，所述磨削包括粗磨削和/或精磨削，所述磨削模块设置在所述基板减薄设备的末端；

抛光模块，用于在完成所述磨削之后利用能够根据所述基板的厚度分布分区调节加载压力的承载头对所述基板进行化学机械抛光，所述抛光模块设置在所述设备前端模块与所述磨削模块之间，所述抛光模块包括化学机械抛光单元；

所述化学机械抛光单元包括一存片部、一抛光盘、一粘接在抛光盘上的抛光垫、两个用于吸附基板并带动基板旋转的承载头、一修整抛光垫的修整器以及一向抛光垫表面提供抛光液的供液部。

2.根据权利要求1所述的基板减薄设备，其特征在于，所述承载头包括环形的、同心的多个可调压腔室，所述多个可调压腔室将所述基板的表面划分为对应的多个分区，通过分别控制所述多个可调压腔室中的压力能够分别调节施加于所述多个分区的压力。

3.根据权利要求2所述的基板减薄设备，其特征在于，所述多个可调压腔室至少为七个。

4.根据权利要求2所述的基板减薄设备，其特征在于，所述承载头还包括：

上部结构，所述上部结构与所述承载头的驱动轴连接；

通过柔性连接件与所述上部结构连接的下部结构，所述下部结构包括：

平衡架；

基座；

用于吸附所述基板和对所述基板施加下压力的弹性膜，所述弹性膜固定在所述基座的下表面上，所述多个可调压腔室设置在所述弹性膜的内部；以及

用于将所述基板保持在所述弹性膜的下方以防止基板滑出的保持环，所述保持环固定在所述基座的下表面上并且环绕所述弹性膜布置在所述弹性膜的外侧，所述保持环沿轴向突出于所述弹性膜。

5.根据权利要求1所述的基板减薄设备，其特征在于，所述承载头对所述基板的各分区的加载压力根据在完成磨削之后、进行化学机械抛光之前的所述基板的厚度分布进行调整。

6.根据权利要求1所述的基板减薄设备，其特征在于，所述承载头对所述基板的各分区的加载压力根据在对所述基板进行化学机械抛光期间在线测量的所述基板的厚度分布进行调整。

7.根据权利要求1所述的基板减薄设备，其特征在于，所述设备前端模块包括用于将所述基板送入所述抛光模块或从所述抛光模块接收所述基板的第一传输单元，所述第一传输单元包括取放片机械手和第一传输轨道，所述取放片机械手具有基座和能在所述基座上旋转的能伸展或收缩的机械臂，所述基座以能滑动的方式设置在所述第一传输轨道上。

8.根据权利要求1所述的基板减薄设备，其特征在于，所述设备前端模块包括基板存储单元，所述基板存储单元设置在所述基板减薄设备的前端一侧并且包括多个前开式基板传送盒，所述前开式基板传送盒分别包括能容纳基板的前开式容器以及前开式门结构，所述前开式门结构气密连接于基板减薄设备的外壁上。