[发明专利]作为除草剂的嘧啶氧基苯衍生物在审
| 申请号： | 202010526060.2 | 申请日： | 2015-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN111574510A | 公开（公告）日： | 2020-08-25 |
| 发明（设计）人： | N·R·德普雷兹;R·P·雷蒂;P·L·萨佩;T·M·斯特文森 | 申请（专利权）人： | FMC公司 |
| 主分类号： | C07D413/12 | 分类号： | C07D413/12;C07D261/08;A01N43/80;A01P13/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 王琳;杨思捷 |
| 地址： | 美国宾夕*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 作为 除草剂 嘧啶 氧基苯 衍生物 | ||
1.一种制备式1化合物的方法，
其中
Q为
r为1；
Z为O；
R1为卤素、氰基、CHO、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4烷氧基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C2-C4烷氧基烷基、C2-C4烷硫基烷基和SOnR1A；
每个n独立地为0、1或2；
R2为卤素、C1-C4烷基和C1-C4卤代烷基；
m为0、1和2；
每个R3独立地为卤素、氰基、羟基、硝基、氨基、CHO、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C(＝O)N(R3A)(R3B)、C(＝NOR3C)H、C(＝N)(R3D)H、C1-C4烷氧基、C2-C4氰基烷氧基、C2-C4烷基羰基、C2-C4烷氧基羰基、C2-C4烷基羰氧基、C2-C4烷氧基烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、SOnR3E和C3-C6环烷基；
每个R3在3-、4-或6-位连接至式1的其余部分；
R1A为C1-C4烷基和C1-C4卤代烷基；
R3E为C1-C4烷基；
R3A为C1-C4烷基；
R3B为H和C1-C4烷基；
R3C为H和C1-C4烷基；和
R3D为H和C1-C4烷基，
该方法包括在适当的溶剂中在碱存在下加热式2化合物：
其中
Q为
r为1；
Z为O；
RA为H；
R1为卤素、氰基、CHO、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C1-C4烷氧基、C3-C4烯氧基、C3-C4炔氧基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C2-C4烷氧基烷基、C2-C4烷硫基烷基和SOnR1A；
每个R3独立地为卤素、氰基、羟基、硝基、氨基、CHO、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、C(＝O)N(R3A)(R3B)、C(＝NOR3C)H、C(＝N)(R3D)H、C1-C4烷氧基、C2-C4氰基烷氧基、C2-C4烷基羰基、C2-C4烷氧基羰基、C2-C4烷基羰氧基、C2-C4烷氧基烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、SOnR3E和C3-C6环烷基；
每个R3在3-、4-或6-位连接至式2的其余部分；
R1A为C1-C4烷基和C1-C4卤代烷基；
R3E为C1-C4烷基；
R3A为C1-C4烷基；
R3B为H和C1-C4烷基；
R3C为H和C1-C4烷基；和
R3D为H和C1-C4烷基，
与式3化合物：
其中
LG包含卤素或SO2CH3；和
R2为卤素、氰基、硝基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基、C2-C6烯基、C2-C6炔基、SOnR2A、C1-C4卤代烷基和C3-C6环烷基。
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