[发明专利]一种保护涂层及其制备方法

说明书

本发明的具体实施方式提供一种保护涂层，所述保护涂层以具有脂环环氧结构单元的单体等离子体聚合形成紧密的刚性分子结构涂层，提升涂层的保护性能。

技术领域

本发明属于等离子化学领域，具体涉及一种等离子体聚合保护涂层及其制备方法。

背景技术

有机聚合物涂层可以有效的对不同材料表面进行保护，在有机聚合物涂层的方法中，气相沉积法在基材表面制备聚合物防护涂层是主流方法，该方法经济适用、易于操作等特点，尤其是等离子体化学气相沉积，利用等离子体活化反应单体气体并在基材表面进行沉积，这种方法适用于各种基材，且沉积的聚合物防护涂层均匀，涂层制备温度低，涂层厚度薄、应力小，对基材表面几乎没有损伤和基材性能几乎没有影响。

对于等离子体聚合涂层，一直以来，等离子聚合单体的选择是其研究的重要课题之一，例如包括采用有机硅氧烷作为单体制备等离子聚合涂层，采用单官能度不饱和氟碳树脂和多官能度不饱和烃类衍生物的混合物作为单体进行等离子涂层，使得涂层形成致密的网状结构对金属进行保护等等。

发明内容

本发明的具体实施方式是为了提供一种新型的等离子聚合单体形成的保护涂层及其制备方法，具体方案如下：

一种保护涂层，由基材接触等离子体，从而在所述基材的表面形成的等离子体聚合涂层，所述等离子体包含单体α的等离子体，所述单体α包含式(1)所示的脂环环氧结构单元，

其中，A为3-20元的脂环结构。

可选的，所述A为五元脂环结构或六元脂环结构。

可选的，所述单体α还包含碳碳双键结构单元、碳碳三键结构单元或环氧结构单元中的至少一个。

可选的，所述单体α具有式(2)所示的结构，

其中，R₁、R₂和R₃分别独立的选自为氢原子、C₁-C₁₀的烷基或C₁-C₁₀的卤原子取代烷基；

R₄为连接键、C₁-C₁₀的亚烷基或C₁-C₁₀的卤原子取代亚烷基。

可选的，所述R₁、R₂和R₃分别独立的选自为氢原子或甲基；所述R₄为连接键、亚甲基或亚乙基。

可选的，所述单体α具有式(3)或式(4)所示的结构

可选的，所述单体α具有式(5)所示的结构，

其中，R₅为连接键、C₁-C₁₀的亚烷基或C₁-C₁₀的卤原子取代亚烷基；

R₆为或

可选的，所述单体α具有式(6)或式(7)所示的结构，

可选的，所述单体α具有式(8)所示的结构，

其中，R₇和R₉分别独立的选自为连接键、C₁-C₁₀的亚烷基或C₁-C₁₀的卤原子取代亚烷基；