[发明专利]一种保护涂层及其制备方法

权利要求书

1.一种保护涂层，其特征在于，所述保护涂层包括沉积于基材上的涂层Ⅰ和涂层Ⅱ，

所述涂层Ⅱ由包含单体α的等离子体形成的等离子聚合涂层；

所述涂层Ⅰ由所述涂层Ⅱ接触包含单体β的等离子体，从而在涂层Ⅱ上形成的等离子聚合涂层；

所述单体α包含式(1)所示的脂环环氧结构单元，

其中，A为3-20元的脂环结构；

所述单体β选自于烷烃、烯烃、炔烃或丙烯酸酯中的一种或多种；所述丙烯酸酯具有式(14)所示的结构，

其中，R₁₇、R₁₈和R₁₉分别独立的选自为氢原子或C₁-C₁₀的烷基；R₂₀为C₁-C₂₀的烃基。

2.根据权利要求1所述的保护涂层，其特征在于，所述A为五元的脂环结构或六元的脂环结构。

3.根据权利要求1所述的保护涂层，其特征在于，所述单体α还包含碳碳不饱和结构单元或环氧结构单元中的至少一个。

4.根据权利要求3所述的保护涂层，其特征在于，所述单体α具有式(2)所示的结构，

其中，R₁、R₂和R₃分别独立的选自为氢原子或C₁-C₁₀的烷基；

R₄为连接键或C₁-C₁₀的亚烷基。

5.根据权利要求4所述的保护涂层，其特征在于，所述R₁、R₂和R₃分别独立的选自为氢原子或甲基；所述R₄为连接键、亚甲基或亚乙基。

6.根据权利要求5所述的保护涂层，其特征在于，所述单体α具有式(3)或式(4)所示的结构

7.根据权利要求3所述的保护涂层，其特征在于，所述单体α具有式(5)所示的结构，

其中，R₅为连接键、C₁-C₁₀的亚烷基；

R₆为

8.根据权利要求7所述的保护涂层，其特征在于，所述单体α具有式(6)或式(7)所示的结构，

9.根据权利要求3所述的保护涂层，其特征在于，所述单体α具有式(8)所示的结构，

其中，R₇和R₉分别独立的选自为连接键或C₁-C₁₀的亚烷基；

R₈为C₁-C₁₀的亚烷基；

X和Y分别独立的选自为连接键、氧原子、羰基或酯基。

10.根据权利要求9所述的保护涂层，其特征在于，所述单体α具有式(9)或式(10)所示的结构。

11.根据权利要求1所述的保护涂层，其特征在于，所述涂层Ⅱ由包含单体α和单体γ的等离子体形成的等离子聚合涂层；所述单体γ包含结构单元a，所述结构单元a具有式(11)所示的结构；

其中，R₁₀、R₁₁和R₁₂分别独立的选自为氢原子或C₁-C₁₀的烷基。