[发明专利]一种在碳化硅表面镀银的方法在审
申请号: | 202010530126.5 | 申请日: | 2020-06-11 |
公开(公告)号: | CN111663124A | 公开(公告)日: | 2020-09-15 |
发明(设计)人: | 刘亚华;李天然;詹海洋 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | C23C18/44 | 分类号: | C23C18/44;C23C18/18;C25D3/46;C25D5/54;C23C28/02 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 李晓亮;潘迅 |
地址: | 116024 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 碳化硅 表面 镀银 方法 | ||
1.一种在碳化硅表面镀银的方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)除油:通过在除油剂中超声处理碳化硅,对其表面进行除油;
(2)粗化:通过在粗化剂中超声处理碳化硅,对其表面进行粗化;
(3)敏化:通过在敏化剂中超声处理碳化硅,对其表面进行敏化;
(4)活化:通过在活化剂中超声处理碳化硅,对其表面进行活化;
(5)还原:通过还原剂对碳化硅表面进行还原处理;
(6)化学镀:配制A液和B液,将碳化硅放入B液中,将A液按1:1的比例与B液混合预镀银;
所述化学镀A液由硝酸银、氢氧化钠、氨水、水组成,其各组分质量分数为:质量分数5.4%的硝酸银、质量分数2.3%的氢氧化钠、一定量的氨水,其余为水,氨水可完全溶解反应中产生的沉淀;化学镀A液配置过程为:首先,将硝酸银溶入水中,在不搅拌的情况下加入氨水将直到析出的氧化银沉淀完全溶解;其次,加入氢氧化钠,溶液再次析出沉淀变黑;最后,在不搅拌的情况下加入氨水直到沉淀完全溶解,溶液变清澈为止,并控制A液的PH值为13.2;
所述化学镀B液由葡萄糖、酒石酸、乙醇、水组成,其各组分质量分数为:质量分数4.2%的葡萄糖、质量分数0.4%的酒石酸、质量分数1%的乙醇,其余为水;化学镀B液配置过程为:葡萄糖和酒石酸溶于水中煮沸冷却后加入乙醇;
(7)电镀:将步骤(6)预镀银后的碳化硅作为阴极,银板作为阳极,在电解液中进行电镀,再次镀上一层银;
所述电镀液由咪唑、磺基水杨酸、硝酸银、乙酸钾、水组成,其各组分质量分数为:质量分数10%的咪唑、质量分数12%的磺基水杨酸、质量分数1.4%的硝酸银、质量分数3.6%的乙酸钾、其余为水;电镀电流为0.2A/dm2,观察表面直至出现均匀银镀层。
2.根据权利要求1所述的一种在碳化硅表面镀银的方法,其特征在于,所述除油剂为质量分数10%的氢氧化钠溶液,超声处理时间为5分钟。
3.根据权利要求1所述的一种在碳化硅表面镀银的方法,其特征在于,所述粗化剂为质量分数10%的硝酸溶液,超声处理时间为2分钟。
4.根据权利要求1所述的一种在碳化硅表面镀银的方法,其特征在于,所述敏化剂由盐酸、二水合氯化硅、水组成,其各组分质量分数为:质量分数2%的盐酸、质量分数2.8%的二水合氯化硅,其余为水;超声处理时间为30分钟。
5.根据权利要求1所述的一种在碳化硅表面镀银的方法,其特征在于,所述活化剂由盐酸、氯化亚锡、水组成,其各组分质量分数为:含有如下组成成分:质量分数0.37%的盐酸、质量分数0.05%氯化亚锡,其余为水;超声处理时间为5分钟。
6.根据权利要求1所述的一种在碳化硅表面镀银的方法,其特征在于,所述还原剂为浓度为25g/L的次磷酸二氢钠溶液,超声处理5分钟。
7.根据权利要求1-6任一所述的一种在碳化硅表面镀银的方法,其特征在于,每一步骤进行前,都应将上一步骤处理的碳化硅板在去离子水中超声清洗并烘干。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理