[发明专利]一种加热前后方阻恒定的低温镀膜工艺在审
申请号: | 202010530548.2 | 申请日: | 2020-06-11 |
公开(公告)号: | CN111560591A | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
发明(设计)人: | 张红;巩燕龙;郑琦林;刘月豹;凌颖;高峰;张浩;石荣飞 | 申请(专利权)人: | 安徽方兴光电新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56;C23C14/10;C23C14/08;C08J7/06 |
代理公司: | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人: | 周勇 |
地址: | 233010 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 加热 后方 恒定 低温 镀膜 工艺 | ||
本发明公开了一种加热前后方阻恒定的低温镀膜工艺,将成卷的柔性PET基材放置于放卷辊轮上,牵引柔性PET基材一端经过低温镀膜室缠绕在收卷辊轮上,利用收卷辊轮提供动力牵引柔性PET基材放卷并在收卷辊轮上进行缠绕收集;PET基材在低温镀膜室内依次经过底层SiO2镀膜区、ITO镀膜区和表层SiO2镀膜区;向ITO镀膜区通入氩气和氧气的混合气体,并控制氧气通入量在气体总通入量中的占比为2.3%;镀膜完成后的PET基材从收卷辊轮上取出,并通过清洗烘干装置进行清洗烘干,本发明通过不断试验找到合适的氧气通入量从而改善ITO层的结构,省却了一道PET基材的加热工序,保证了方阻恒定,提高加工效益且降低了能耗,同时提高了ITO膜层的稳定性。
技术领域
本发明涉及ITO镀膜技术领域,具体为一种加热前后方阻恒定的低温镀膜工艺。
背景技术
低温磁控溅射技术是一种当下大规模应用于生产的镀膜技术,低温磁控溅射具有成膜速率高,基片温度低,可实现大面积镀膜等优点,因此多数柔性导电膜是用此种技术生产的,但是,运用低温磁控溅射技术生产出来的膜存在着膜质松散、电阻均匀性与稳定性较差的缺点;
当下手写板作为一种便捷的手绘工具深受消费者喜爱,市场前景广阔,本公司在对手写板的黑膜或雾膜PET基材进行上述低温磁控溅射技术镀膜后,通过检测发现膜层电阻均匀性较差,为了解决上述问题,当下传统的处理方式是增加一道加热工序,来使其方阻恒定,这是因为低温镀膜时,温度一般在80℃以下,ITO层的结晶度不够,所以才需要加热,来以此提高ITO层结晶度,让方阻恒定,上述处理方式单纯为了调节膜质而进行加热会增加生产成本,影响加工效益且能耗较高。
本发明的目的在于研究出的新的改良方案,在不增加加热工序的前提下即可获得恒定的方阻,可直接用于手写板上的一种加热前后方阻恒定的低温镀膜工艺。
发明内容
本发明的目的在于提供一种加热前后方阻恒定的低温镀膜工艺,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种加热前后方阻恒定的低温镀膜工艺,包括如下步骤:
将成卷的柔性PET基材放置于放卷辊轮上,牵引柔性PET基材一端经过低温镀膜室缠绕在收卷辊轮上,利用收卷辊轮提供动力牵引柔性PET基材放卷并在收卷辊轮上进行缠绕收集;
PET基材在低温镀膜室内依次经过底层SiO2镀膜区、ITO镀膜区和表层SiO2镀膜区;
向ITO镀膜区通入氩气和氧气的混合气体,并控制氧气通入量在气体总通入量中的占比为2.3%;
镀膜完成后的柔性柔性PET基材从收卷辊轮上取出,并通过清洗烘干装置进行清洗烘干。
优选的,PET基材表面从上到下依次镀有面层SiO2膜材、ITO膜材和底层SiO2膜材。
优选的,收卷辊轮带动柔性PET基材的移动速度为2m/s,底层SiO2镀膜区功率为8-16kw、ITO镀膜区功率为15-20kw、表层SiO2镀膜区功率为2.4-4kw。
优选的,所述面层SiO2膜材的厚度为3-5nm,所述底层SiO2膜材的厚度为10-20nm。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
1、本发明省却了一道PET基材的加热工序,通过不断试验找到合适的氧气通入量从而改善ITO层的结构,使得导电膜不需要加热也可得到恒定的方阻,提高加工效益且降低了能耗;
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