[发明专利]涂抹标本制作装置、涂抹标本制作装置的控制方法以及样本处理装置在审

专利信息
申请号: 202010534436.4 申请日: 2020-06-12
公开(公告)号: CN112146964A 公开(公告)日: 2020-12-29
发明(设计)人: 生田纯也;芝田正治;中西利志;山崎充生;高野裕士;西川健 申请(专利权)人: 希森美康株式会社
主分类号: G01N1/30 分类号: G01N1/30;G01N1/31
代理公司: 北京市安伦律师事务所 11339 代理人: 杨永波
地址: 日本兵库县神户市*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 涂抹 标本 制作 装置 控制 方法 以及 样本 处理
【说明书】:

本发明的目的在于降低染色液的消费量。以复数个作业模式进行作业的涂抹标本制作装置(100)具备:涂抹部(30),将样本涂抹于玻片(10)制作涂抹玻片(11);染色部(40),能收容复数个涂抹玻片(11)并且存放对收容的涂抹玻片(11)上的样本染色的染色液并进行染色处理;流体回路部(50),对染色部(40)供给染色液;控制部(20),与复数个作业模式中所选择的作业模式相应地控制对染色部(40)的染色液的供给。

技术领域

本发明涉及将样本涂抹于玻片并染色的涂抹标本制作装置、涂抹标本制作装置的控制方法以及样本处理装置。

背景技术

如图25所示,专利文献1公开了一种涂抹标本制作装置900,其具备:涂抹部901,将样本涂抹于玻片911制作涂抹玻片912;染色部902,能收容复数个涂抹玻片912并且存放对收容的涂抹玻片912上的样本染色的染色液并进行染色处理;流体回路部903,对染色部902供给染色液。该专利文献1的涂抹标本制作装置900能选择进行染色处理的作业模式和不进行染色处理的作业模式。

现有技术文献

专利文献

专利文献1国际公开第2017/038323号。

发明内容

发明要解决的技术问题

例如优选在这样的涂抹标本制作装置中降低染色液的使用量和废弃量。

本发明一个技术层面的目的在于降低染色液的使用量和废弃量。

解决技术问题的技术手段

如图1所示,本发明第1技术层面的以复数个作业模式进行作业的涂抹标本制作装置(100)具备:涂抹部(30),将样本涂抹于玻片(10)制作涂抹玻片(11);染色部(40),能收容复数个涂抹玻片(11)并且存放对收容的涂抹玻片(11)上的样本染色的染色液并进行染色处理;流体回路部(50),对染色部(40)供给染色液;控制部(20),在复数个作业模式中,与所选择的作业模式相应地控制向染色部(40)的染色液的供给。

如上所述,本发明第1技术层面的以复数个作业模式进行作业的涂抹标本制作装置(100)具备与所选择的作业模式相应地控制向染色部(40)的染色液的供给的控制部(20)。由此,当不进行染色处理时能够削减供给至染色部(40)的染色液的使用量和废弃量,因此能够降低染色液的使用量和废弃量。

如图1和图2所示,本发明第2技术层面的以复数个作业模式进行作业的涂抹标本制作装置的控制方法包括如下工序:将样本涂抹于玻片(10)制作涂抹玻片(11)的工序;在复数个作业模式中选择至少一个作业模式的工序;与所选择的作业模式相应地控制向染色部(40)的染色液的供给的工序,其中,所述染色部(40)能收容复数个涂抹玻片(11)并且存放对收容的涂抹玻片(11)上的样本染色的染色液并进行染色处理;与控制向染色部(40)的染色液的供给的工序相应地对染色部(40)供给染色液的工序;用供给至染色部(40)的染色液进行染色处理的工序。

如上所述,本发明第2技术层面的涂抹标本制作装置的控制方法包括如下工序:在复数个作业模式中选择至少一个作业模式的工序;与所选择的作业模式相应地控制对染色部(40)的染色液的供给的工序,其中,所述染色部(40)能收容复数个涂抹玻片(11)并且存放对收容的涂抹玻片(11)上的样本染色的染色液并进行染色处理。由此,当不进行染色处理时能够削减供给至染色部(40)的染色液的使用量和废弃量,因此能够降低染色液的使用量和废弃量。

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