[发明专利]一种基于磁聚集效应的磁场明暗栅装置在审
申请号: | 202010535364.5 | 申请日: | 2020-06-12 |
公开(公告)号: | CN111537925A | 公开(公告)日: | 2020-08-14 |
发明(设计)人: | 李孟委;秦世洋;王旭虎 | 申请(专利权)人: | 中北大学 |
主分类号: | G01R33/09 | 分类号: | G01R33/09 |
代理公司: | 北京惠智天成知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11681 | 代理人: | 刘莹莹 |
地址: | 030051*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 聚集 效应 磁场 明暗 装置 | ||
1.一种基于磁聚集效应的磁场明暗栅装置,其特征在于,包括:磁体平台(2)、磁场明暗栅组件(10)和基板(9),所述磁体平台(2)设置在所述磁场明暗栅组件(10)顶部,所述基板(9)设置在所述磁场明暗栅组件(10)底部;
所述磁场明暗栅组件(10)包含:支撑框架(3)、放大平台(4)、支撑槽(5)、高磁导率软磁隧尖(6);
所述支撑槽(5)滑动设置在所述支撑框架(3)内,所述支撑槽(5)水平设置,多个所述放大平台(4)滑动设置在所述滑动槽内,所述放大平台(4)底部设置所述高磁导率软磁隧尖(6)。
2.根据权利要求1所述的基于磁聚集效应的磁场明暗栅装置,其特征在于,所述磁体平台(2)设置在支撑框架(3)顶部,所述磁体平台(2)用于放置被测磁体(1)。
3.根据权利要求1所述的基于磁聚集效应的磁场明暗栅装置,其特征在于,所述支撑槽(5)与支撑框架(3)之间通过阻尼材料或阻尼配合滑动连接。
4.根据权利要求1所述的基于磁聚集效应的磁场明暗栅装置,其特征在于,所述高磁导率软磁隧尖(6)形状包括:矩形环、圆环或三角环。
5.根据权利要求1所述的基于磁聚集效应的磁场明暗栅装置,其特征在于,所述基板(9)设置在支撑框架(3)的底部,所述基板(9)上开设有平移滑道(8),所述平移滑道(8)内滑动设置有磁敏电阻(7)。
6.根据权利要求1所述的基于磁聚集效应的磁场明暗栅装置,其特征在于,所以磁体平台(2)、支撑框架(3)、支撑槽(5)、放大平台(4)、平移滑道(8)、基板(9)的材料采用对磁场无干扰的材料,包括:酚醛塑料、聚氨酯塑料、环氧塑料、不饱和聚酯塑料、呋喃塑料、有机硅树脂、丙烯基树脂、铜、铂。
7.根据权利要求1所述的基于磁聚集效应的磁场明暗栅装置,其特征在于,所述高磁导率软磁隧尖(6)的材料包括:MnZnt铁氧体、NiFe系合金。
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