[发明专利]激光加密防伪拉线及其制备方法

权利要求书

1.一种激光加密防伪拉线，其特征在于：包括从上到下依次设置的基膜层、复合涂层、激光加密信息层、铝层、彩色保护光油层和胶层，所述的激光加密信息层包含隐藏信息，隐藏信息在点光源下显现。

2.根据权利要求1所述的激光加密防伪拉线，其特征在于：所述的复合涂层是一种可全息压印的热塑性丙烯酸树脂层。

3.根据权利要求1所述的激光加密防伪拉线，其特征在于：所述的激光加密信息层内隐藏数字编码信息。

4.根据权利要求1所述的激光加密防伪拉线，其特征在于：所述的激光加密信息层的隐藏信息由多个正方形光栅晶格阵列组成，其处理方式为激光刻蚀，光栅晶格含有光栅空频以及光栅角度两个参量。

5.根据权利要求1所述的激光加密防伪拉线，其特征在于：所述的激光加密信息层的隐藏信息包含文字、字母、数字、符号或图形。

6.根据权利要求1所述的激光加密防伪拉线，其特征在于：所述的铝层厚度为

7.根据权利要求1所述的激光加密防伪拉线，其特征在于：所述的彩色保护光油层采用耐碱彩色光油制备，彩色保护光油层信息包含图案或文字。

8.根据权利要求1所述的激光加密防伪拉线，其特征在于：所述的胶层为水性丙烯酸体系压敏胶，干涂量为1-2g/m²。

9.一种权利要求1-8任一所述的激光加密防伪拉线的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

(1)选择单面电晕PET拉线膜作为基膜，在电晕面涂布复合涂层；

(2)激光加密信息层模压版的制作：

首先制作隐藏图案，将隐藏图案放置于极坐标系，根据系统抽样方法，随机抽取N(N＝n*n)个像素点，其中，n≥4，分别计算每个像素点到坐标系零点的距离ρ和夹角角度θ，根据每个像素点到坐标系零点的距离，得出一个n*n的矩阵，最终得出空频灰度图矩阵G；根据每个像素点到坐标系零点的夹角，得出一个n*n的矩阵，最终得出角度灰度图矩阵H，根据空频灰度图矩阵G和角度灰度图矩阵H，在光刻机中完成激光加密信息模压层的制版工作，得到激光加密信息层模压版；

(3)使用模压机将激光加密信息复制到复合涂层上，形成激光加密信息层；

(4)在激光加密信息层上面真空蒸镀铝层；

(5)在铝层上使用凹印机局部印刷耐碱彩色光油；

(6)使用碱液将未印刷耐碱彩色光油部位的铝层洗掉，凸显印刷图案；

(7)在彩色保护光油层上涂布压敏胶；

(8)使用分切机分切，得拉线成品。

10.根据权利要求9所述的激光加密防伪拉线的制备方法，其特征在于：所述的激光加密信息层模压版的制作包括以下步骤：

(1)根据设计文件，制作隐藏图案，建立极坐标系，将图案放置于极坐标系中零点处；

(2)图案分辨率为a*b，图案中共由a*b个像素点组成，根据系统抽样方法，随机抽取N(N＝n*n)个像素点，其中，n≥4，使用计算机计算每个像素点的坐标值(x₁，y₁)、(x₂，y₂)、(x₃，y₃)、……(x_N，y_N)，以及每个像素点与零点的距离(ρ₁、ρ₂、ρ₃、……ρ_N)；

(3)根据极坐标系公式x＝ρcosθ，y＝ρcosθ，分别计算每个像素点与零点夹角角度(θ₁、θ₁、θ₁、……θ_N)；

(4)L为观察距离，是固定参量，β为光栅角度，d为光栅栅距，λ为激光器波长，根据tanβ＝ρ/L，可以求得β，根据光栅方程sinβ＝λ/d，可以求得光栅栅距d，此时可以建立每个光栅晶格的二维参量(d₁，θ₁)、(d₂，θ₂)、(d₃，θ₃)……(d_N，θ_N)；

(5)根据N个光栅晶格的光栅栅距d，可以得到一个矩阵如下：

d₁，d₂，……………………d_n

d_n+1，d_n+2，………………d_2*n

………………………………

d_n*(n-1)+1，d_n*(n-1)+2，……d_n*n

计算得出d的最大值d_max和最小值d_min，最小值对应灰度值0，最大值对应灰度值255，按照此对应关系，可将N个d的值对应成另一个由灰度值组成的矩阵G，此矩阵便构成一幅灰度图，如下：

G₁，G₂，……………………G_n

G_n+1，G_n+2，………………G_2*n

………………………………

G_n*(n-1)+1，G_n*(n-1)+2，……G_n*n；

(6)根据了N个光栅晶格的角度θ，可以得到一个矩阵如下：

θ₁，θ₂，……………………θ_n

θ_n+1，θ_n+2，………………θ_2*n

………………………………

θ_n*(n-1)+1，θ_n*(n-1)+2，……θ_n*n

计算得出θ的最大值θ_max和最小值θ_min，最小值对应灰度值0，最大值对应灰度值255，按照此对应关系，可将N个θ的值对应成另一个由灰度值组成的矩阵H，此矩阵便构成一幅灰度图，如下：

H₁，H₂，……………………H_n

H_n+1，H_n+2，………………H_2*n

………………………………

H_n*(n-1)+1，H_n*(n-1)+2，……H_n*n；

(7)根据光刻空频灰度矩阵G与光栅角度灰度矩阵H，制作一个曝光单元，上述曝光单元尺寸是边长为n/R毫米的正方形，其中R为光刻图的分辨率，10dpi＜R＜50800dpi；

(8)将步骤(7)中的曝光单元阵列成设计尺寸，经过光刻工艺制作在光刻胶版上，经显影电镀后得到激光加密信息层模压版。