[发明专利]一种回音壁模式有机异形谐振腔及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种回音壁模式有机异形谐振腔的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括如下步骤：

将有机半导体分子溶于有机良溶剂中，得到有机半导体溶液；

将不良溶剂、有机半导体溶液加入到容器内，且有机半导体溶液与不良溶剂不接触并有机半导体溶液在不良溶剂的上方；所述不良溶剂为甲苯；

将容器盖上盖子，使容器不完全密封，易挥发的不良溶剂充满整个容器，对有机半导体溶液中溶剂的挥发产生影响，并且不良溶剂分子会快速扩散到有机半导体溶液内，从而诱导有机半导体分子在液相中逐渐析出、结晶、组装，当溶剂挥发后，得到回音壁模式有机异形谐振腔；

所述有机半导体溶液的浓度为2-10mmol/L，通过调控有机半导体溶液的浓度制备了具有不同长径比的类纺锤体，长径比的调控范围在1.2-4.1。

2.根据权利要求1所述回音壁模式有机异形谐振腔的制备方法，其特征在于：所述有机半导体分子为4,4'-双[4-(二对甲苯基氨基)苯乙烯基]联苯。

3.根据权利要求2所述回音壁模式有机异形谐振腔的制备方法，其特征在于：所述有机良溶剂为二氯甲烷。

4.根据权利要求3所述回音壁模式有机异形谐振腔的制备方法，其特征在于：所述有机半导体溶液与不良溶剂的体积比为0.1-0.3：3-7。

5.权利要求1、2、3或4所述方法制备的回音壁模式有机异形谐振腔。

6.权利要求5所述回音壁模式有机异形谐振腔在微纳激光器上的应用。