[发明专利]抛光介质制备装置和方法、机械化学抛光设备和方法有效

专利信息
申请号: 202010540873.7 申请日: 2020-06-15
公开(公告)号: CN111633563B 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 尹涛;赵盼盼;尹永仁;冯凯萍;张天雷 申请(专利权)人: 衢州学院;嘉兴星微纳米科技有限公司
主分类号: B24B57/02 分类号: B24B57/02;C09G1/02;H01L21/306
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 郑磊
地址: 324000 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 抛光 介质 制备 装置 方法 机械 化学抛光 设备
【权利要求书】:

1.一种抛光介质制备装置,其特征在于,所述抛光介质制备装置包括用于储存抛光液的储液罐(1)、用于向所述储液罐(1)内释放预定压力气体的气压泵(2)、第一管道(3)和第二管道(4);所述第一管道(3)的一端与所述气压泵(2)的出气口连接,另一端从所述储液罐(1)的进液口延伸至所述储液罐(1)的底部;所述第二管道(4)从所述储液罐(1)的底部延伸至所述储液罐(1)外;所述第一管道(3)延伸至所述储液罐(1)的底部的一端设置有螺旋增压结构(5),所述螺旋增压结构(5)用于促进从所述第一管道(3)释放的气体与所述储液罐(1)内的抛光液充分混合,以形成抛光介质;

所述螺旋增压结构(5)包括本体(51)和设置在所述本体(51)的侧壁上的通孔(52),所述本体(51)内沿着所述本体(51)的轴线方向设置有螺旋通道(53),所述通孔(52)与所述螺旋通道(53)连通;所述螺旋通道(53)至少满足以下条件之一:

(a)所述螺旋通道(53)的螺距沿所述本体(51)的轴线方向递减;

(b)所述螺旋通道(53)的截面直径沿所述本体(51)的轴线方向递减;

(c)所述螺旋通道(53)的直径沿所述本体(51)的轴线方向递减。

2.根据权利要求1所述的抛光介质制备装置,其特征在于,所述抛光介质制备装置还包括第三管道(6)和储气罐(7),所述第三管道(6)的一端与所述气压泵(2)的进气口连接,另一端与所述储气罐(7)的出气口连接。

3.根据权利要求1所述的抛光介质制备装置,其特征在于,所述第二管道(4)上设置有用于控制所述第二管道(4)中流体的流量的阀门(8)。

4.一种抛光介质制备装置,其特征在于,所述抛光介质制备装置包括用于储存抛光液的储液罐(1)、用于向所述储液罐(1)内释放预定压力气体的气压泵(2)、第一管道(3)和第二管道(4);所述第一管道(3)的一端与所述气压泵(2)的出气口连接,另一端从所述储液罐(1)的进液口延伸至所述储液罐(1)的底部;所述第二管道(4)从所述储液罐(1)的底部延伸至所述储液罐(1)外;所述第一管道(3)延伸至所述储液罐(1)的底部的一端设置有螺旋增压结构(5),所述螺旋增压结构(5)用于促进从所述第一管道(3)释放的气体与所述储液罐(1)内的抛光液充分混合,以形成抛光介质;

所述螺旋增压结构(5)包括本体(51)和设置在所述本体(51)的侧壁上的通孔(52),所述本体(51)的内壁设置有沿所述本体(51)的轴向分布的螺旋通道(53),所述本体(51)内沿所述本体(51)的轴向设置有中心柱(54),所述中心柱(54)的侧壁紧贴于所述螺旋通道(53), 所述通孔(52)与所述螺旋通道(53)连通;

所述螺旋通道(53)至少满足以下条件之一:

(a)所述螺旋通道(53)的螺距沿所述本体(51)的轴线方向递减;

(b)所述螺旋通道(53)的截面直径沿所述本体(51)的轴线方向递减;

(c)所述螺旋通道(53)的直径沿所述本体(51)的轴线方向递减。

5.根据权利要求4所述的抛光介质制备装置,其特征在于,所述抛光介质制备装置还包括第三管道(6)和储气罐(7),所述第三管道(6)的一端与所述气压泵(2)的进气口连接,另一端与所述储气罐(7)的出气口连接。

6.根据权利要求4所述的抛光介质制备装置,其特征在于,所述第二管道(4)上设置有用于控制所述第二管道(4)中流体的流量的阀门(8)。

7.一种抛光介质制备方法,其特征在于,利用权利要求2或5所述的抛光介质制备装置进行抛光介质的制备,所述抛光介质制备方法包括:在所述储气罐(7)中储存氢气、氦气、氮气、氧气、氟气、氖气、氯气、氩气、臭氧、氨气、二氧化碳、二氧化氮中的至少一种气体;在所述储液罐(1)内储存抛光液;利用所述气压泵(2)向所述储液罐(1)内释放预定压力的气体,并通过所述螺旋增压结构(5)促进气体与抛光液充分混合,以获取抛光介质。

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