[发明专利]外观检查装置及外观检查方法在审

专利信息
申请号: 202010541989.2 申请日: 2020-06-15
公开(公告)号: CN112113976A 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 上條秀章 申请(专利权)人: 日本电产三协株式会社
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95;G01N21/88
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 沈捷
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 外观 检查 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种外观检查装置,其检查在基板上依次层叠有第一配线、透光膜及第二配线的半导体器件的缺陷,其特征在于,具有:

照明部,所述照明部至少向所述半导体器件照射第一波长范围的光及与所述第一波长范围不同的第二波长范围的光;以及

拍摄部,所述拍摄部具备透镜单元,所述透镜单元在将多个透镜各自的位置固定的状态下产生使所述第一配线相对于所述第一波长范围的光位于景深内、且使所述第二配线相对于所述第二波长范围的光位于景深内的轴向色差,

在将所述多个透镜各自的位置固定的状态下,基于通过所述拍摄部获得的由所述第一波长范围的光形成的所述第一配线的像及由所述第二波长范围的光形成的所述第二配线的像,检查所述第一配线及所述第二配线的缺陷。

2.根据权利要求1所述的外观检查装置,其特征在于,

所述透镜单元具有以下特性:当将所述多个透镜中的任一透镜配置为使该透镜的拍摄侧的面和物侧的面相反时,轴向色差变小。

3.根据权利要求1或2所述的外观检查装置,其特征在于,

所述照明部在不同的定时向所述半导体器件照射所述第一波长范围的光及所述第二波长范围的光,在照射所述第一波长范围的光的定时及照射所述第二波长范围的光的定时,所述拍摄部分别拍摄所述半导体器件。

4.根据权利要求1或2所述的外观检查装置,其特征在于,

基于所述照明部将所述第一波长范围的光及所述第二波长范围的光同时照射到所述半导体器件上时由所述拍摄部拍摄的图像中包括的所述第一配线的像及所述第二配线的像,检查所述第一配线及所述第二配线的缺陷。

5.根据权利要求4所述的外观检查装置,其特征在于,

所述照明部具备:光源部,所述光源部射出包括所述第一波长范围及所述第二波长范围的波长范围的光;以及带通滤波器,所述带通滤波器使从所述光源部射出的光源光中的所述第一波长范围的光及所述第二波长范围的光选择性地通过。

6.根据权利要求5所述的外观检查装置,其特征在于,

所述光源光是白色的光。

7.根据权利要求1~4中任一项所述的外观检查装置,其特征在于,

所述照明部具备射出所述第一波长范围的光的第一光源和射出所述第二波长范围的光的第二光源。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的外观检查装置,其特征在于,

所述照明部配置为照明光相对于所述半导体器件的入射光轴从相对于所述基板的法线方向倾斜。

9.根据权利要求8所述的外观检查装置,其特征在于,

所述照明部配置为照明光的射出光轴从相对于所述基板的法线方向倾斜。

10.根据权利要求8所述的外观检查装置,其特征在于,

所述照明部具有反射镜,所述反射镜将从光源部射出的光源光朝向所述半导体器件反射。

11.根据权利要求1~7中任一项所述的外观检查装置,其特征在于,

具有光路合成元件,所述光路合成元件合成从所述照明部到所述半导体器件的光路和从所述半导体器件到所述拍摄部的光路。

12.根据权利要求1~11中任一项所述的外观检查装置,其特征在于,

所述拍摄部使用线传感器拍摄所述半导体器件,

设置有输送装置,所述输送装置使所述拍摄部和所述半导体器件在与所述线传感器的延伸方向交叉的方向上相对移动。

13.根据权利要求1~12中任一项所述的外观检查装置,其特征在于,

通过所述拍摄部获得彩色图像。

14.根据权利要求1~12中任一项所述的外观检查装置,其特征在于,

通过所述拍摄部获得单色图像。

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