[发明专利]一种回旋离子束加工装置在审

专利信息
申请号: 202010542689.6 申请日: 2020-06-15
公开(公告)号: CN111739776A 公开(公告)日: 2020-10-02
发明(设计)人: 任明俊 申请(专利权)人: 上海琳鼎光学科技有限公司
主分类号: H01J37/30 分类号: H01J37/30;H01J37/305;H01J37/244
代理公司: 上海浙晟知识产权代理事务所(普通合伙) 31345 代理人: 杨小双
地址: 201109 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 回旋 离子束 加工 装置
【权利要求书】:

1.一种回旋离子束加工装置,其特征在于,它包括工作台、离子源、离子束引出装置、离子束速度选择器、离子束聚焦组件、末端离子束束流检测器、三维移动平台;

所述工作台表面固定有工件,工件始终处于侧向的均匀磁场中;

所述离子源和工件之间依次设有离子束引出装置、离子束速度选择器、离子束聚焦组件,离子源射出的离子经过离子束引出装置、离子束速度选择器、离子束聚焦组件后形成离子束,离子束经过均匀磁场回旋后射向末端离子束束流检测器;

所述离子源、离子束引出装置、离子束速度选择器、离子束聚焦组件、末端离子束束流检测器共同构成离子束发生装置,离子束发生装置或者工作台两者之一安装在三维移动平台上,通过三维移动平台驱动离子束发生装置或者工作台移动,使得离子束回旋圆周与工件接触。

2.根据权利要求1所述一种回旋离子束加工装置,其特征在于,所述工作台、工件、均匀磁场、三维移动平台外部设有磁场屏蔽罩,工作台安装在三维移动平台上,磁场屏蔽罩上设有离子束入射口和离子束出射口,离子束由离子束入射口进入磁场屏蔽罩内,由离子束出射口射出磁场屏蔽罩。

3.根据权利要求1所述一种回旋离子束加工装置,其特征在于,所述离子束发生装置外部设有磁场屏蔽罩中,磁场屏蔽罩和离子束发生装置安装在三维移动平台上,磁场屏蔽罩上设有离子束出射口和离子束入射口,离子束由离子束出射口射出磁场屏蔽罩,由离子束入射口进入磁场屏蔽罩内。

4.根据权利要求1所述一种回旋离子束加工装置,其特征在于,所述离子束聚焦组件与工件之间设有初端离子束束流检测器。

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