[发明专利]一种回旋离子束加工装置在审
申请号: | 202010542689.6 | 申请日: | 2020-06-15 |
公开(公告)号: | CN111739776A | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 任明俊 | 申请(专利权)人: | 上海琳鼎光学科技有限公司 |
主分类号: | H01J37/30 | 分类号: | H01J37/30;H01J37/305;H01J37/244 |
代理公司: | 上海浙晟知识产权代理事务所(普通合伙) 31345 | 代理人: | 杨小双 |
地址: | 201109 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 回旋 离子束 加工 装置 | ||
1.一种回旋离子束加工装置,其特征在于,它包括工作台、离子源、离子束引出装置、离子束速度选择器、离子束聚焦组件、末端离子束束流检测器、三维移动平台;
所述工作台表面固定有工件,工件始终处于侧向的均匀磁场中;
所述离子源和工件之间依次设有离子束引出装置、离子束速度选择器、离子束聚焦组件,离子源射出的离子经过离子束引出装置、离子束速度选择器、离子束聚焦组件后形成离子束,离子束经过均匀磁场回旋后射向末端离子束束流检测器;
所述离子源、离子束引出装置、离子束速度选择器、离子束聚焦组件、末端离子束束流检测器共同构成离子束发生装置,离子束发生装置或者工作台两者之一安装在三维移动平台上,通过三维移动平台驱动离子束发生装置或者工作台移动,使得离子束回旋圆周与工件接触。
2.根据权利要求1所述一种回旋离子束加工装置,其特征在于,所述工作台、工件、均匀磁场、三维移动平台外部设有磁场屏蔽罩,工作台安装在三维移动平台上,磁场屏蔽罩上设有离子束入射口和离子束出射口,离子束由离子束入射口进入磁场屏蔽罩内,由离子束出射口射出磁场屏蔽罩。
3.根据权利要求1所述一种回旋离子束加工装置,其特征在于,所述离子束发生装置外部设有磁场屏蔽罩中,磁场屏蔽罩和离子束发生装置安装在三维移动平台上,磁场屏蔽罩上设有离子束出射口和离子束入射口,离子束由离子束出射口射出磁场屏蔽罩,由离子束入射口进入磁场屏蔽罩内。
4.根据权利要求1所述一种回旋离子束加工装置,其特征在于,所述离子束聚焦组件与工件之间设有初端离子束束流检测器。
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