[发明专利]透镜阵列的制备方法、显示装置及其制备方法有效
申请号: | 202010542730.X | 申请日: | 2020-06-15 |
公开(公告)号: | CN111653689B | 公开(公告)日: | 2023-04-28 |
发明(设计)人: | 黄海涛;舒适;姚琪;顾仁权;崔钊;徐传祥 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H10K71/00 | 分类号: | H10K71/00;H10K50/858;H10K59/12 |
代理公司: | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人: | 武娜 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 透镜 阵列 制备 方法 显示装置 及其 | ||
1.一种透镜阵列的制备方法,其特征在于,包括:
在衬底上形成混合膜层,所述混合膜层包括阵列排布的第一混合子膜与第二混合子膜,液体在所述第一混合子膜的表面的接触角小于液体在所述第二混合子膜的表面的接触角;
在所述混合膜层上涂覆光固化树脂;
在所述光固化树脂形成阵列排布的液滴后,对所述光固化树脂进行光固化,得到阵列排布的透镜,所述液滴呈透镜状;所述液滴位于所述第一混合子膜上,所述透镜位于所述第一混合子膜上;
所述在衬底上形成混合膜层,包括:
在所述衬底上形成第一膜层;
在所述第一膜层上形成第二膜层;所述第二膜层包括阵列排布的第一区域与第二区域;
分别对所述第一区域与所述第二区域进行曝光,以使所述第一膜层的材料与所述第二膜层的材料发生聚合反应,得到所述混合膜层,所述第一区域的曝光时长大于所述第二区域的曝光时长,所述第一混合子膜位于所述第一区域,所述第二混合子膜位于所述第二区域;
所述第一区域的曝光时长为3s~13s,所述第二区域的曝光时长为0.2s~1.1s。
2.根据权利要求1所述的透镜阵列的制备方法,其特征在于,所述第一膜层的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯或聚酰亚胺;
所述第二膜层的材料为丙烯酸或丙烯酰胺。
3.根据权利要求1所述的透镜阵列的制备方法,其特征在于,对所述第一区域与所述第二区域进行曝光的光辐照度为30mW/cm2~80mW/cm2。
4.根据权利要求1所述的透镜阵列的制备方法,其特征在于,液体在所述第一混合子膜的表面的接触角为10度~50度,液体在所述第二混合子膜的表面的接触角为60度~90度。
5.一种显示装置的制备方法,其特征在于,包括:权利要求1至4任一项所述的透镜阵列的制备方法。
6.根据权利要求5所述的显示装置的制备方法,其特征在于,所述对所述光固化树脂进行光固化,得到阵列排布的透镜之后,还包括:
在所述阵列排布的透镜上形成保护层。
7.根据权利要求5所述的显示装置的制备方法,其特征在于,所述在衬底上形成混合膜层之前,还包括:
在衬底上形成阵列排布的多个子像素;相邻的子像素之间存在非显示区;所述混合膜层位于所述阵列排布的多个子像素远离所述衬底的一侧;所述子像素在所述衬底上的投影位于所述第一混合子膜在所述衬底上的投影内,所述第二混合子膜在所述衬底上的投影位于所述非显示区在所述衬底上的投影内。
8.根据权利要求7所述的显示装置的制备方法,其特征在于,所述形成混合膜层之前,还包括:
在所述阵列排布的多个子像素上形成封装层,所述封装层位于所述子像素与所述混合膜层之间。
9.根据权利要求8所述的显示装置的制备方法,其特征在于,所述多个子像素包括至少一种颜色的子像素;在所述阵列排布的多个子像素上形成封装层之后,还包括:
在所述封装层上形成彩膜层,所述彩膜层位于所述封装层与所述混合膜层之间,所述彩膜层包括黑矩阵与至少一种颜色的滤光片;所述黑矩阵位于相邻的滤光片之间;所述子像素的颜色与所述滤光片的颜色一一对应;对于同一种颜色,所述子像素在所述衬底上的投影位于所述滤光片在所述衬底上的投影内,所述黑矩阵在所述衬底上的投影位于所述非显示区在所述衬底上的投影内。
10.一种显示装置,其特征在于,包括:
衬底;
阵列排布的多个子像素,位于所述衬底上;相邻的子像素之间存在非显示区;
混合膜层,位于所述阵列排布的多个子像素远离所述衬底的一侧;所述混合膜层包括阵列排布的第一混合子膜与第二混合子膜,液体在所述第一混合子膜的表面的接触角小于液体在所述第二混合子膜的表面的接触角;所述子像素在所述衬底上的投影位于所述第一混合子膜在所述衬底上的投影内,所述第二混合子膜在所述衬底上的投影位于所述非显示区在所述衬底上的投影内;所述混合膜层通过以下步骤形成:在所述衬底上形成第一膜层;在所述第一膜层上形成第二膜层;所述第二膜层包括阵列排布的第一区域与第二区域;分别对所述第一区域与所述第二区域进行曝光,以使所述第一膜层的材料与所述第二膜层的材料发生聚合反应,得到所述混合膜层,所述第一区域的曝光时长大于所述第二区域的曝光时长,所述第一混合子膜位于所述第一区域,所述第二混合子膜位于所述第二区域;
阵列排布的透镜,所述透镜位于所述第一混合子膜上;
所述第一区域的曝光时长为3s~13s,所述第二区域的曝光时长为0.2s~1.1s。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010542730.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种板状件包装装置
- 下一篇:一种废钢预热控制系统及控制方法