[发明专利]一种辐射降温薄膜胶带及其制备方法

权利要求书

1.一种辐射降温薄膜胶带，其特征在于，所述辐射降温薄膜胶带依次包括辐射层、反射层、薄膜基材、阻燃层和黏贴层；

所述辐射层包含光学胶和无机粒子，无机粒子通过光学胶粘在反射层上；在制备过程中，所述辐射层的原料先配制成辐射层涂布液，所述辐射层涂布液包括丙烯酸树脂100份、固化剂5-20份、有机溶剂50-100份，助剂0.05-0.5份，无机粒子20-60份，所述份数为质量份；无机粒子20-60份包括折射率为1.93的微珠0-40份，和折射率为2.20的微珠0-40份，折射率为1.93的微珠与折射率为2.20的微珠的质量比为3:1；所述固化剂为快干型三聚体异氰酸酯TDI型，所述助剂为硅烷偶联剂；

制备过程中，所述的阻燃层的原料先配制成阻燃涂布液，所述阻燃涂布液包括聚酯聚氨酯预聚体100份、固化剂10-20份、助剂0.05-0.5份、阻燃剂5-20份、和有机溶剂50-100份，所述份数为质量份数；在阻燃涂布液中，所述固化剂为异氰酸酯，所述助剂为硅烷偶联剂；

所述的反射层为镀铝层或镀银层，所述的薄膜基材为PET薄膜基材；所述的黏贴层为丙烯酸压敏胶层；

在制备过程中，所述丙烯酸压敏胶层的原料先配制成丙烯酸压敏胶涂布液，所述丙烯酸压敏胶涂布液包含丙烯酸压敏胶100份，固化剂0.6-2.0份，有机溶剂50-100份，和助剂0.05-0.5份；所述份数是质量份；在丙烯酸压敏胶涂布液中，固化剂为TDI异氰酸酯加成物，助剂为硅烷偶联剂；

所述辐射层的厚度为20-30微米。

2.根据权利要求1所述的辐射降温薄膜胶带，其特征在于，所述辐射降温薄膜胶带依次包括辐射层、反射层、薄膜基材、阻燃层、黏贴层和离型层。

3.根据权利要求1所述的辐射降温薄膜胶带，其特征在于，所述辐射层涂布液包括丙烯酸树脂100份、固化剂10份、有机溶剂50份，助剂0.1-0.2份，无机粒子40份，所述份数为质量份；所述无机粒子40份包括折射率为1.93的微珠30份，和折射率为2.20的微珠10份。

4.一种根据权利要求2所述的辐射降温薄膜胶带的制备方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤：

(1)在薄膜基材的一面制备反射层；

(2)配制阻燃涂布液，在薄膜基材的另一面制备阻燃层；

(3)配制辐射层涂布液，在反射层上制备辐射层；

(4)在离型层的表面制备黏贴层，将黏贴层复合到阻燃层上。